[发明专利]具有变暗的多层导体迹线的图案化基底

说明书

相关专利申请的交叉引用

本专利申请要求提交于2011年2月2日的第61/438,800号美国临时专利申请的权益，该专利申请的公开内容以引用方式全文并入本文中。

背景技术

本领域中已知，在需要透光率以及电导率的应用中使用基于金属的导体网格。此类应用的实例包括屏蔽显示器的电磁干扰。在工业中，网格通常理解为表示具有连接迹线的图案几何形状，所述连接迹线由开放区域隔开以形成多个单元。

通过观察发现在当前的产品中，一些网格设计在一体化到显示器中以及在反射的平行光束（例如，直射的阳光）下观察时，可能产生不良的视觉效应。示例性的不良视觉效应包括例如由光干涉引起的反射光的星放射状模式（starburst pattern）以及彩色反射光（类似于彩虹）的谱带，上述每个现象能在包含线性迹线以及重复的单元几何形状的网格设置在未改的基底（例如，塑料膜或玻璃）上时被观察到。具有线性迹线的网格的示例性实例包括具有六边形以及正方形单元的网格。基于线性迹线的导体网格也可能出现闪光，闪光是反射光点的不期望的视觉呈现。

本领域的一些技术人员已试图减少对叠加的网格微图案的视觉呈现，方法是在制造诸如触摸屏显示器这样的显示器时使用波形迹线。例如，参见第WO 2010/099132 A2号PCT国际公开案，其描述了一种制品，例如天线、电磁干扰屏蔽罩以及具有一个透光基底和两个导电网格的触摸屏传感器，每个网格都具有线性迹线，其中第一网格按照一定的构造与第二网格叠加，从而将迹线的可见度最小化。

其他技术人员人已试图使用环境光减少构件，例如，光学干涉构件。参见第WO 2003/105248号PCT国际公开案，其公开了一种光学干涉构件，所述构件包括：半吸收构件层，用于反射一部分入射环境光；基本透明层，用于相移另一部分环境光；以及反射层，用于反射相移后的环境光，以使得光的两个反射部分异相并且从而进行相消干涉。

发明内容

需要改善基于金属的导体网格的视觉外观，以当网格被一体化到显示器中并且在诸如直射阳光这样的反射的平行光束下观察时降低其可见度。

本发明提供多种制品，其使用与导体微图案的设计组合的改进的基底或导电光学干涉层。当一体化到显示器或装置中时，在光下观察所述显示器或装置的时候，该组合降低了不良视觉效应，例如，星放射状、闪光、光晕以及彩虹，所述光包括但不限于平行光或几乎平行的光，例如阳光。

一方面，本发明涉及一种制品，其包括（a）具有相对的第一表面和第二表面的基底；以及（b）设置在所述基底的第一表面上的导体微图案，所述导体微图案包含界定多个单元的多条迹线，其中所述导体微图案具有大于80%的开放区域比率以及均匀的迹线取向的分布；并且迹线中的每一条各自具有0.5微米至10微米的迹线宽度，并且其中所述导体微图案包含三层材料，所述三层材料按照顺序包含半反射金属、透明层以及设置在透明层上的反射层。

附图说明

结合以下附图可以进一步描述本发明，其中：

图1是一种规则六边形微图案的示意性俯视平面图；

图2是一种多边形微图案的一部分的示意性俯视平面图，本文中将该微图案称作伪随机六边形微图案；

图3是基于规则六边形的第一示例性非线性微图案设计的示意性俯视平面图，并且本文中将该微图案称作局部弯曲的六边形微图案；

图3a是图3所示微图案的若干个单元的分解图；

图4是基于规则六边形的第二示例性非线性微图案设计的示意性俯视平面图，并且本文中将该微图案称作完全弯曲的六边形微图案；

图4a是图4所示的微图案的若干个单元的分解图；

图5是第三示例性非线性微图案，伪随机弯曲设计的俯视平面图；

图6示出了展示测量方法的微图案中的一个单元，该测量方法用于确定迹线取向；

图7示出了对于图1所示微图案垂直于迹线片段的取向的柱状图；

图8示出了对于伪随机六边形微图案垂直于迹线片段的取向的柱状图，所述伪随机六边形微图案的一部分如图2所示；

图9示出了对于局部弯曲的六边形微图案垂直于迹线片段的取向的柱状图，所述局部弯曲的六边形微图案的一部分如图3所示；

图10示出了对于完全弯曲的六边形微图案的迹线取向的角分布的柱状图，所述完全弯曲的六边形微图案的一部分如图4所示；