[实用新型]一种多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统

权利要求书

1.一种多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，它包括可编程控制器（1）、气体压力/流量控制仪（2）、质量流量计(3)、比例调节阀（4）、隔断阀（5）、高真空角阀（6）、薄膜压力规（7）和真空溅射腔室（20），其特征在于：真空溅射腔室（20）上共有六个阴极，其中：在后门上有三个阴极平行分布，径向排列，靠近真空腔室下圆周表面；在前门上有三个阴极平行分布，径向排列，悬挂在前门支撑上相对位置靠近真空腔室圆周的上表面；系统还分别具有第一、第二、第三、第四、第五和第六阴极质量流量控制器（8、10、12、14、16、18）和第一、第二、第三、第四、第五和第六阴极隔断阀（9、11、13、15、17、19）；高纯氩气经过气体稳压装置（7）后分别连接到各阴极质量流量控制器（8、10、12、14、16、18）的进气口；各阴极质量流量控制器（8、10、12、14、16、18）的出气口分别接到各阴极隔断阀（9、11、13、15、17、19）的入口，各阴极隔断阀（9、11、13、15、17、19）的出口接到真空溅射腔室（20）上各阴极的进气口上；各阴极质量流量控制器（8、10、12、14、16、18）通过数据线接入到可编程控制器（1）的模拟量输入模块和输出模块上，各阴极隔断阀（9、11、13、15、17、19）也是连接到可编程控制器（1）的数字量输出模块上。

2.根据权利要求1所述的多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，其特征在于：所述的气体压力/流量控制仪（2）与可编程控制器（1）连接，薄膜压力规（7）实时采集到压力转变为电信号通过数据线连接传递到气体压力/流量控制仪（2），气体压力/流量控制仪（2）的智能PID闭环控制模块对信号进行处理后产生的偏差量经过数据线连接控制比例调节阀（4）。

3.根据权利要求2所述的多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，其特征在于：所述的比例调节阀（4）和真空溅射腔室（20）之间设置有隔断阀（5）。

4.根据权利要求2所述的多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，其特征在于：所述的薄膜压力规（7）与真空溅射腔室（20）之间设置有高真空角阀（6）。

5.根据权利要求1或2或3或4所述的多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，其特征在于：所述的可编程控制器（1）采用西门子公司的S7-315DP，所述的气体压力/流量控制仪（2）采用250E气体压力/流量控制仪，所述的薄膜压力规（7）采用Baratron?的626B薄膜压力规，所述的质量流量计(3)采用MFM的179A全金属的质量流量计，所述的比例调节阀（4）采用148J 金属密封压力控制阀。

6.根据权利要求1或2或3或4所述的多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，其特征在于：所述的第一、第二、第三、第四、第五和第六阴极质量流量控制器（8、10、12、14、16、18）采用美国MKS公司的1179A通用型的弹性密封的质量流量控制器；所述的第一、第二、第三、第四、第五和第六阴极隔断阀（9、11、13、15、17、19）采用隔断阀EV4C-I。

7.根据权利要求1或2或3或4所述的多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，其特征在于：所述的可编程控制器（1）连接输入输出设备触摸屏（22）。

8.根据权利要求1或2或3或4所述的多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统，其特征在于：所述的真空溅射腔室（20）的尺寸为Φ1300mm*1000mm，每个阴极长度在1m，宽度为0.18m。