[实用新型]一种具有固定辅助边的掩模板有效
申请号: | 201220673016.5 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN202995252U | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 魏志凌 | 申请(专利权)人: | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 固定 辅助 模板 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种掩模板,具体涉及一种具有固定辅助边的掩模板及其制作方法,属于OLED掩模板制造领域。
背景技术
OLED显示屏作为继CRT、LCD之后最具有发展潜力的第三代显示技术,其发展日益受到人们的关注,目前,制备高质量OLED屏的一种核心技术是采用高精密OLED掩模板在ITO玻璃基板上蒸镀R、G、B三原色制得。作为掩模介质的OLED掩模板的精度会直接影响到最终OLED屏的质量,因此业内非常重视OLED掩模板制作的每个环节。一个完整OLED掩模板制造过程包括:具有开口图案掩模板的制作→掩模板的固定→掩模板的包装。其中掩模板的固定环节具体是将掩模板绷拉平整后通过激光焊接或者其他连接方式固定在一个外框上,为了便于绷拉,掩模板的外围会留有一个用于绷拉的区域,掩模板固定好后,用于绷拉的区域需要裁除,通常裁除手段是通过机械裁剪等方法,如此会引起掩模板边缘曲翘甚至使得裁剪区域附近固定点脱落,影响最终产品质量。因此,业界亟需一种能够在OLED掩模板制造过程中解决此种缺陷的方法。
实用新型内容
有鉴于此,需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本实用新型提供了一种具有固定辅助边的掩模板及其制作方法。
所述具有固定辅助边的掩模板,包括掩模板主体、辅助边及半刻线区,所述辅助边设置在所述掩模板主体外侧通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接。
根据本专利背景技术中对现有技术所述,目前工艺中掩模板的固定环节具体是将掩模板绷拉平整后通过激光焊接或者其他连接方式固定在一个外框上,为了便于绷拉,掩模板的外围会留有一个用于绷拉的区域,掩模板固定好后,用于绷拉的区域需要裁除,通常裁除手段是通过机械裁剪等方法,如此会引起掩模板边缘曲翘甚至使得裁剪区域附近固定点脱落,影响最终产品质量;而本实用新型提供的所述具有固定辅助边的掩模板具有与传统工艺中功能类似的辅助边,所述具有固定辅助边的掩模板在连接并固定在外框上后由于所述半刻线区的存在,可以很方便省力的将辅助边切除,并大大降低了传统工艺剪切过程中对原有掩模板上丝网的影响,也避免了传统工艺中的掩模板边缘曲翘甚至使得裁剪区域附近固定点脱落,大大提高了生产效率。
另外,根据本实用新型公开的具有固定辅助边的掩模板还具有如下附加技术特征:
可选地,所述辅助边设置在掩模板主体的四周形成封闭外框且通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接。
可选地,所述辅助边设置在掩模板主体的两对边形成开放外框且通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接。
通常情况下,所述掩模板主体为四边形的丝网,所述辅助边可以在所述掩模板主体的四个周边设置形成一个四边形的封闭的外围边框,并通过所述半刻线与所述掩模板主体联接;但在某些情况下,所述辅助边只是在所述掩模板主体的两个对边设置形成一个平行的开放的外围边框,即仅有两个对边的外围边框,同时通过所述半刻线与所述掩模板主体联接。
进一步地,所述半刻线区为厚度小于所述掩模板主体厚度且小于所述辅助边厚度的狭长区域。
优选地,所述半刻线与固定掩模板主体的外框形状尺寸相适应,即半刻线区形成的外边形状与外框形状保持一致或基本一致,在去除辅助边后,掩模板主体外边能与外框边缘吻合。
所述辅助边及所述半刻线区的存在是为了在所述掩模板连接并固定在外框进行裁切后降低裁切过程中对掩模板的影响,因此连接所述掩模板主体和所述辅助边的半刻线区为所述掩模板主体厚度且小于所述辅助边厚度的狭长区域,这样一方面能将固定连接边缘限制在所述半刻线区内,避免裁切过程中对所述半刻线区内的所述掩模板主体的影响,同时,大大降低了裁切力,节能且高效。
在实际应用中,所述半刻线区的厚度设置应由以下原则确定:半刻线区13能够承受外界将掩模板拉紧绷平的水平拉力(相对图中所示方位)而不断裂,同时也能在相对较小的剪切力(垂直于掩模板板面)下断开。
进一步地,所述半刻线区设置有通孔。
优选地,所述通孔均匀分布。
所述通孔的设置进一步降低了裁切力,而均匀分布的通孔则可以使裁切力更加均匀,形成良好的切口断面。
可选地,所述半刻线区边缘设置有大开口。
优选地,所述大开口对称分布在所述半刻线边缘。
所述大开口的设置可以更好地提供裁切的起始位置,使起始的裁切力更小,
本实用新型还提供了相应的掩模板的制作方法,其特征包括:
S1,压贴感光干膜:在所述掩模板上待制半刻线区以及其两侧均压贴感光干膜;
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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