[实用新型]一种具有固定辅助边的掩模板有效
| 申请号： | 201220673016.5 | 申请日： | 2012-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN202995252U | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 固定 辅助 模板 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有固定辅助边的掩模板，包括掩模板主体、辅助边及半刻线区，其特征在于，所述辅助边设置在所述掩模板主体外侧通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接。
2.根据权利要求1所述的具有固定辅助边的掩模板，其特征在于，所述辅助边设置在掩模板主体的四周形成封闭外框且通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接。
3.根据权利要求1所述的具有固定辅助边的掩模板，其特征在于，所述辅助边设置在掩模板主体的两对边形成开放外框且通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接。
4.根据权利要求1所述的具有固定辅助边的掩模板，其特征在于，所述半刻线区为厚度小于所述掩模板主体厚度且小于所述辅助边厚度的狭长区域。
5.根据权利要求1所述的具有固定辅助边的掩模板，其特征在于，所述半刻线区设置有通孔。
6.根据权利要求5所述的具有固定辅助边的掩模板，其特征在于，所述通孔均匀分布。
7.根据权利要求1所述的具有固定辅助边的掩模板，其特征在于，所述半刻线区边缘设置有大开口。
8.根据权利要求7所述的具有固定辅助边的掩模板，其特征在于，所述大开口对称分布在所述半刻线边缘。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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