[实用新型]一种槽式硅片清洗机及其抛动架

权利要求书

1.一种槽式硅片清洗机抛动架，包括用于与驱动装置相连的连接法兰（5）和料篮承载端，其特征在于，所述料篮承载端包括底面骨架（8）、顶面骨架（2）和设置于所述顶面骨架（2）和底面骨架（8）之间的纵向支撑柱（4），所述底面骨架（8）、顶面骨架（2）和纵向支撑柱（4）围成料篮容纳腔，且所述料篮容纳腔的底面和侧面上均包覆有过滤网（1）。

2.根据权利要求1所述的槽式硅片清洗机抛动架，其特征在于，所述料篮容纳腔底面上设置有用于与料篮配合的托脚（7）。

3.根据权利要求1所述的槽式硅片清洗机抛动架，其特征在于，所述过滤网（1）可拆装的设置于所述料篮容纳腔的底面和侧面上。

4.根据权利要求1所述的槽式硅片清洗机抛动架，其特征在于，所述过滤网（1）为不锈钢过滤网，且所述过滤网（1）的网孔面积为8mm²-10mm²。

5.根据权利要求1所述的槽式硅片清洗机抛动架，其特征在于，还包括设置于所述料篮容纳腔侧面上且与所述料篮容纳腔底面平行的氮气管路（3），所述氮气管路（3）上朝向所述料篮容纳腔内部的一侧设置有多个出气孔（9）。

6.根据权利要求5所述的槽式硅片清洗机抛动架，其特征在于，所述料篮容纳腔的底面为长方形，所述纵向支撑柱（4）为两端封闭的钢管，所述氮气管路（3）的两端分别与各自所在侧面的纵向支撑柱（4）相连通，所述料篮容纳腔的任意一个纵向支撑柱（4）上设置有氮气入口（6）。

7.根据权利要求6所述的槽式硅片清洗机抛动架，其特征在于，所述出气孔（9）沿所述氮气管路（3）均匀设置，且相邻两个出气孔（9）的距离不大于5mm。

8.一种槽式硅片清洗机，包括清洗槽和设置于所述清洗槽内的抛动架，其特征在于，所述抛动架为如权利要求1-7任意一项所述的抛动架。

9.根据权利要求8所述的槽式硅片清洗机，其特征在于，超声波振板设置于所述清洗槽的底部或者侧壁上。