[实用新型]一种高真空多靶磁控溅射镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种高真空多靶磁控溅射镀膜机，特别是PROFIBUS-DP现场总线在高真空多靶磁控溅射镀膜机的应用结构。

背景技术

目前，国内高真空多靶磁控溅射镀膜机多数采用的一个PLC主机系统来控制，设备所用的元件都要通过很长的导线一一接到PLC主机上，这样造成了大量的线束接入主机，可靠性降低，抗干扰能力下降增加了系统的不稳定性，同时信息采集量也受到很大程度上的限制，繁琐不易实现信息的共享。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高真空多靶磁控溅射镀膜机，它主要解决现有采用的一个PLC主机系统来控制的高真空多靶磁控溅射镀膜机，可靠性降低，抗干扰能力下降增加了系统的不稳定性，同时信息采集量也受到很大程度上的限制，繁琐不易实现信息的共享等技术问题，它使主站和从站之间能够实时高速通讯，实现信息交换，完成信息采集和监控功能的作用；简化走线设计，实现大容量信息交换，控制自如，提高系统的可靠性。

为实现上述目的，本实用新型是这样实现的。

一种高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：它包括采集监控计算机，该采集监控计算机通过以太网连接西门子S7-300系列315PLC主机，该S7-300系列315PLC主机通过RS232串口连接低温泵机组；该S7-300系列315PLC主机通过还通过PROFIBUS-DP现场总线分别连接作为从站的西门子分布I/O模块组ET200M、冷热水机组S7-200系统、溅射电源ASCENT、溅射室门打开关闭变频器MM420、倾角电机变频器MM420、系统冷热水循环水泵变频器MM420、溅射电源和低温泵冷却循环水泵变频器MM420、转鼓驱动伺服电机控制器F5、转鼓角度编码器OCD1、倾角角度编码器OCD2、电解质分析仪M300、残余气体分析仪RGA和钛升华泵系统。

所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：该S7-300系列315PLC主机还通过RS232串口连接UPS不间断电源。

所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述的采集监控计算机通采用DELL计算机。

所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述的西门子分布I/O模块组ET200M作为从站安装开关量输入输出模块、模拟量输入输出模块以及通信模块。

所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：该开关量输入模块接开关、按钮、行程开关或流量开关，开关量输出模块接电磁阀、接触器、继电器或指示灯，模拟量输入模块接电阻规、电离规、压力传感器、气体质量流量计或水流量传感器，模拟量输出模块接气体质量流量计、功率调压器或水流量传感器。

本实用新型中的PROFIBUS-DP现场总线特别适用于可编程控制器与现场级分散的I/O 设备之间的快速循环的数据交换并具有快速的响应时间和高抗干扰性。整个设备层联接的现场设备包括数字量、模拟量输入/输出、变频器、伺服电机、编码器、ET200M分布式I/O；ET200M （IM153-2） 系列整个控制系统PROFIBUS-DP网络的速率保证不低于1.2MBit/S，分布的I/O通过此网络具有同主CPU系统扩展模块一样的反应能力。

PROFIBUS-DP控制和传统控制相比具有的优势：

① PROFIBUS-DP是一种高速，低成本通信，专门用于设备级控制系统与分散I/O的通信。使用PROFIBUS-DP可取代24VDC或4-20MA信号传输。

② 代替 PLC与分布 I/O 器件之间昂贵的导线。

③ 高速，传输 1 千字节的输入数据和 1千字节的输出数据所需时间小于2 MS。

④ 具有强有力的工具，减少组态和安装维护费用。

⑤ 大多数制造商都能提供此通讯功能。

⑥ 有比较广泛的产品： PLC，分布式 I/O，伺服控制器，编码器，磁控电源、变频器、RGA等。

⑦ 允许周期性和非周期性的数据传输。

 可以组建单一主站网络，也可以组建多主站网络。

  扩展方便，便于设备以后的升级和改造。

藉由上述优点，本实用新型具有如下有益技术效果：

1、本实用新型简化了大量线束，降低了成本，减少了线束之间的干扰，增强了系统的可靠性。

2、镀膜机所应用的子设备能与主机之间进行大量的信息交换，主机可以对子设备的运行状态及参数进行有效的监控，PROFIBUS-DP通讯传递了通过子设备I/O接口所不能传递的有用信息，信息传递受到局限，不容易实现信息的共享。