[实用新型]一种高真空多靶磁控溅射镀膜机有效
| 申请号： | 201220661549.1 | 申请日： | 2012-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN203012466U | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 张伟;韩志平 | 申请（专利权）人： | 上海米开罗那机电技术有限公司;北京米开罗那机电技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G05B19/418 | 分类号： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201315 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空 磁控溅射 镀膜 | ||
1.一种高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：它包括采集监控计算机（1），该采集监控计算机（1）通过以太网连接西门子S7-300系列315PLC主机（2），该S7-300系列315PLC主机（2）通过RS232串口连接低温泵机组（4、5）；该S7-300系列315PLC主机（2）通过还通过PROFIBUS-DP现场总线分别连接作为从站的西门子分布I/O模块组ET200M（6、7、8）、冷热水机组S7-200系统（9、10）、溅射电源ASCENT（11、12、13、14、15、16）、溅射室门打开关闭变频器MM420（17）、倾角电机变频器MM420（18）、系统冷热水循环水泵变频器MM420（19、20）、溅射电源和低温泵冷却循环水泵变频器MM420（21、22）、转鼓驱动伺服电机控制器F5（23）、转鼓角度编码器OCD1（24）、倾角角度编码器OCD2（25）、电解质分析仪M300（26）、残余气体分析仪RGA（27）和钛升华泵系统（28）。
2.根据权利要求1所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：该S7-300系列315PLC主机（2）还通过RS232串口连接UPS不间断电源（3）。
3.根据权利要求1或2所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述的采集监控计算机通采用DELL计算机。
4.根据权利要求1或2所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述的西门子分布I/O模块组ET200M（6、7、8）作为从站安装开关量输入输出模块、模拟量输入输出模块以及通信模块。
5.根据权利要求4所述的高真空多靶磁控溅射镀膜机，其特征在于：该开关量输入模块接开关、按钮、行程开关或流量开关，开关量输出模块接电磁阀、接触器、继电器或指示灯，模拟量输入模块接电阻规、电离规、压力传感器、气体质量流量计或水流量传感器，模拟量输出模块接气体质量流量计、功率调压器或水流量传感器。
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