[实用新型]一种用于二氧化硫喷射法深度处理含氰污水的装置有效

专利信息
申请号: 201220619102.8 申请日: 2012-11-21
公开(公告)号: CN202924848U 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 赵振锋;杨建高;康冠军;潘少华;刘晓勃;汪江敏;张学军;张建军 申请(专利权)人: 灵宝金源矿业股份有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新;杨海霞
地址: 472500 河南*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 二氧化硫 喷射 深度 处理 污水 装置
【权利要求书】:

1.一种用于二氧化硫喷射法深度处理含氰污水的装置,其特征在于,包括顺次连接的一次曝气槽、破氰槽和二次曝气槽,所述破氰槽连接水喷射真空泵。

2.如权利要求1所述用于二氧化硫喷射法深度处理含氰污水的装置,其特征在于,所述二次曝气槽经压滤泵依次连接板框压滤机、浓密机和缓冲槽。

3.如权利要求1或2所述用于二氧化硫喷射法深度处理含氰污水的装置,其特征在于,所述一次曝气槽数量为2个,所述破氰槽的数量为2个,所述二次曝气槽数量为4个。

4.如权利要求3所述用于二氧化硫喷射法深度处理含氰污水的装置,其特征在于,所述浓密机的下端出口经软管泵与二次曝气槽连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于灵宝金源矿业股份有限公司,未经灵宝金源矿业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220619102.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top