[实用新型]吸附装置有效

专利信息
申请号: 201220543427.2 申请日: 2012-10-23
公开(公告)号: CN202846418U 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 宋延生;文斌 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: B25B11/00 分类号: B25B11/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 宋珊珊
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 吸附 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及需要使用基板的制造领域,特别涉及一种吸附装置。

背景技术

在需要使用基板的制造领域中,如在液晶显示装置的制造过程中,需要使用不同的装置对基板进行不同的加工,在对基板进行不同的加工的过程中,需要对基板进行固定。现有的基板的固定是通过吸附装置如放置基板的基台的吸附栓或真空孔进行吸附固定。但是这两种吸附方式吸附的面积比较小,固定效果不够理想;如果通过增加吸附栓和真空孔的方式保证固定效果,需要的吸附栓和真空孔比较多,加工的复杂程度比较高。

实用新型内容

本实用新型提供了一种吸附装置,增加吸附面积,从而改善了吸附固定基板的效果,同时,吸附槽的加工比较简单。

为达到上述目的,本实用新型提供以下技术方案:

一种吸附装置,包括:

载放台,所述载放台的上表面划分有一个或多个吸附区域;每个所述吸附区域凹设有吸附槽,每个所述吸附槽的槽底设置有一个或多个真空孔;

抽真空单元,所述抽真空单元与每个所述真空孔相连通。

优选地,每个所述吸附区域包括p个相互平行的吸附槽;其中,p是大于1的自然数。

优选地,所述吸附槽包括横向吸附槽和纵向吸附槽;每个所述吸附区域包括m个相互平行的横向吸附槽和n个相互平行的纵向吸附槽,横向吸附槽和纵向吸附槽相交叉且交叉处相连通,交叉处为m×n个;其中,m和n是大于1的自然数。

优选地,所述横向吸附槽之间等间距分布,所述纵向吸附槽之间等间距分布,且最边缘的交叉处位于所述横向吸附槽和所述纵向吸附槽的端部。

优选地,每个所述真空孔设置在交叉处的槽底。

优选地,所述多个真空孔均匀分布。

优选地,所述多个真空孔围合形成的图形是中心对称图形且是轴对称图形。

优选地,每个所述交叉处的槽底设置有一个真空孔。

优选地,所述载放台的上表面划分有1个吸附区域,所述吸附区域包括6个相互平行的横向吸附槽和6个相互平行的纵向吸附槽;

所述第1个,第3个,第4个和第6个横向吸附槽与第1个,第3个,第4个和第6个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔;

所述第2个和第5个横向吸附槽与所述第2个和第5个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔。

优选地,所述载放台的上表面划分有四个吸附区域,所述四个吸附区域按阵列两行×两列分布;每个所述吸附区域包括3个相互平行的横向吸附槽和3个相互平行的纵向吸附槽;

第一行第一列和第二行第二列的吸附区域的所述第1个横向吸附槽与第1个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第2个横向吸附槽与第2个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第3个横向吸附槽与第3个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔;

第一行第二列和第二行第一列的吸附区域的所述第1个横向吸附槽与第3个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第2个横向吸附槽与第2个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第3个横向吸附槽与第1个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔。

优选地,还包括真空监测单元,所述真空监测单元与吸附区域一一对应,每个真空监测单元和与之对应的吸附区域的吸附槽相连接。

本实用新型提供的吸附装置,在需要固定基板的时候,将基板放置在载放台上,基板与载放台的上表面相接触;启动抽真空单元,抽真空单元通过每个真空孔对每个吸附槽与基板之间进行抽真空,从而将基板吸附固定在载放台上。与现有的仅依靠真空孔进行吸附固定相比,本实用新型的吸附装置采用吸附槽这个简单的结构,增加吸附面积,从而改善了吸附固定基板的效果,同时,吸附槽的加工比较简单。

附图说明

图1为本实用新型的吸附装置的一个实施例的示意图;

图2为本实用新型的吸附装置的另一个实施例的示意图。

主要元件附图标记说明:

100载放台,111横向吸附槽,112纵向吸附槽,113交叉处,

200真空孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型的第一个实施例的吸附装置,如图1和图2所示,包括:

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