[实用新型]吸附装置有效
| 申请号: | 201220543427.2 | 申请日: | 2012-10-23 |
| 公开(公告)号: | CN202846418U | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
| 发明(设计)人: | 宋延生;文斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号: | B25B11/00 | 分类号: | B25B11/00 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 宋珊珊 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 吸附 装置 | ||
1.一种吸附装置,其特征在于,包括:
载放台,所述载放台的上表面划分有一个或多个吸附区域;每个所述吸附区域凹设有吸附槽,每个所述吸附槽的槽底设置有一个或多个真空孔;
抽真空单元,所述抽真空单元与所述每个真空孔相连通。
2.根据权利要求1所述的吸附装置,其特征在于,每个所述吸附区域包括p个相互平行的吸附槽;其中,p是大于1的自然数。
3.根据权利要求1所述的吸附装置,其特征在于,所述吸附槽包括横向吸附槽和纵向吸附槽;每个所述吸附区域包括m个相互平行的横向吸附槽和n个相互平行的纵向吸附槽,横向吸附槽和纵向吸附槽相交叉且交叉处相连通,交叉处为m×n个;其中,m和n是大于1的自然数。
4.根据权利要求3所述的吸附装置,其特征在于,所述横向吸附槽之间等间距分布,所述纵向吸附槽之间等间距分布,且最边缘的交叉处位于所述横向吸附槽和所述纵向吸附槽的端部。
5.根据权利要求4所述的吸附装置,其特征在于,每个所述真空孔设置在交叉处的槽底。
6.根据权利要求5所述的吸附装置,其特征在于,所述多个真空孔均匀分布。
7.根据权利要求5所述的吸附装置,其特征在于,所述多个真空孔围合形成的图形是中心对称图形且是轴对称图形。
8.根据权利要求5所述的吸附装置,其特征在于,每个所述交叉处的槽底设置有一个真空孔。
9.根据权利要求7所述的吸附装置,其特征在于,所述载放台的上表面划分有1个吸附区域,所述吸附区域包括6个相互平行的横向吸附槽和6个相互平行的纵向吸附槽;
所述第1个,第3个,第4个和第6个横向吸附槽与第1个,第3个,第4个和第6个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔;
所述第2个和第5个横向吸附槽与所述第2个和第5个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔。
10.根据权利要求7所述的吸附装置,其特征在于,所述载放台的上表面划分有四个吸附区域,所述四个吸附区域按阵列两行×两列分布;每个所述吸附区域包括3个相互平行的横向吸附槽和3个相互平行的纵向吸附槽;
第一行第一列和第二行第二列的吸附区域的所述第1个横向吸附槽与第1个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第2个横向吸附槽与第2个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第3个横向吸附槽与第3个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔;
第一行第二列和第二行第一列的吸附区域的所述第1个横向吸附槽与第3个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第2个横向吸附槽与第2个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔,所述第3个横向吸附槽与第1个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的吸附装置,其特征在于,还包括真空监测单元,所述真空监测单元与吸附区域一一对应,每个真空监测单元和与之对应的吸附区域的吸附槽相连接。
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