[实用新型]立式辊磨基础排污结构有效

专利信息
申请号: 201220505974.1 申请日: 2012-09-28
公开(公告)号: CN202845106U 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 石光;申占民;赵剑波;容红 申请(专利权)人: 中材(天津)粉体技术装备有限公司;中材装备集团有限公司
主分类号: B02C15/00 分类号: B02C15/00
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300400 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 立式 基础 排污 结构
【权利要求书】:

1.一种立式辊磨基础排污结构,其特征在于:包括倾斜固定在机架底座上的排污管和预留在一次土建基础上的排污孔,所述排污管的出口顺序穿过所述机架底座和所述排污孔伸出到立磨本体外部,所述排污管的入口露在二次灌浆区域的上表面,所述排污管的入口高于所述排污管的出口。

2.根据权利要求1所述的立式辊磨基础排污结构,其特征在于,在所述二次灌浆区域的上表面上,且在所述排污管的入口周围抹有自远至近逐渐降低的斜坡。

3.根据权利要求1或2所述的立式辊磨基础排污结构,其特征在于,所述排污管通过连接板固定在所述机架底座上。

4.根据权利要求1所述的立式辊磨基础排污结构,其特征在于,所述排污管的倾斜角度为10°。

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