[实用新型]一种掩膜板有效
申请号: | 201220457411.X | 申请日: | 2012-09-07 |
公开(公告)号: | CN202735675U | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 彭川;隆清德 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 | ||
1.一种掩膜板,包括:光栅层,所述光栅层具有至少一个图形开口区域,其特征在于,还包括:
覆盖所述图形开口区域的柱状透镜;
所述柱状透镜的一侧为圆拱,另一侧面向所述光栅层,所述圆拱的圆心指向所述光栅层,且其跨度大于等于所述图形开口区域的宽度。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述柱状透镜包括:
设置于所述光栅层的入光侧表面的柱状透镜;和/或,
设置于所述光栅层的出光侧表面的柱状透镜。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板还包括:
设置于所述光栅层的入光侧表面的透明基板,所述透明基板的厚度小于所述柱状透镜的焦距;
相应的,所述柱状透镜设置于所述透明基板的入光侧表面。
4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述透明基板与所述柱状透镜为一体结构。
5.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述图形开口区域包括关键区域和非关键区域;
所述柱状透镜与所述关键区域一一对应。
6.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述柱状透镜的中心线与所述图形开口区域的中心线均在与所述光栅层垂直的面内。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备