[实用新型]易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积设备至少包括：

清洗气体发生装置、及通过主通道依次顺序连通的反应室、隔离阀、压力调节阀及抽气泵；

其中，所述清洗气体发生装置通过清洗气体供应通道连通至所述反应室的第一输入端，所述清洗气体供应通道与一设有第一阀门的旁通道的一端连通，位于所述隔离阀和压力调节阀之间的主通道与所述旁通道的另一端连通。

2.根据权利要求1所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第一输入端设置有第二阀门。

3.根据权利要求1所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述清洗气体发生装置输出的是离子状态的含氟的气体或离子状态的含氯的气体。

4.根据权利要求1所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述清洗气体供应通道上、及位于所述隔离阀和压力调节阀之间的主通道上，均设有供其分别与旁通道进行连通的孔洞。

5.根据权利要求1所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：在各该孔洞周围、所述清洗气体供应通道和旁通道的连接处、及主通道和旁通道的连接处包裹有密封圈。

6.根据权利要求1所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述化学气相沉积设备还包括与所述抽气泵相连通的废气通道。

7.根据权利要求6所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述废气通道的一端连通至抽气泵，所述废气通道的另一端连通至毒性去除装置。

8.根据权利要求1所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述化学气相沉积设备还包括借助反应气体供应通道与所述反应室第二输入端相连通的反应气体发生装置。

9.根据权利要求8所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述第二输入端设置有第三阀门。

10.根据权利要求8所述的易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述主通道、旁通道、清洗气体供应通道、反应气体供应通道的材料为铝。