[实用新型]基板显影后清洗装置

权利要求书

1.一种基板显影后清洗装置，包括依次邻接的初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区，显影后基板依次经过初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区进行清洗，每个清洗区设置有供水管和排废管，所述中级清洗区和终极清洗区之间设置有第一集水池，终极清洗区的终极排废管和中级清洗区的中级供水管分别与所述第一集水池相连，其特征在于，所述初级清洗区和中级清洗区之间设置有第二集水池，初级清洗区的初级供水管和中级清洗区的中级排废管与所述第二集水池相连。

2.如权利要求1所述的基板显影后清洗装置，其特征在于，所述第一集水池和第二集水池相连通，以将第二集水池内的循环水输送至第一集水池。

3.如权利要求2所述的基板显影后清洗装置，其特征在于，所述第一集水池和第二集水池邻接设置，共用一块侧壁板，该共用侧壁板上设置有第一溢流孔，所述第一集水池和第二集水池通过第一溢流孔连通。

4.如权利要求3所述的基板显影后清洗装置，其特征在于，所述第二集水池上设置有第二溢流孔，所述第二溢流孔的高度低于所述第一溢流孔的高度。

5.如权利要求1所述的基板显影后清洗装置，其特征在于，所述中级供水管上设置有动力泵，以将所述第一集水池内的循环水供给中级清洗区。

6.如权利要求1所述的基板显影后清洗装置，其特征在于，所述初级供水管上设置有动力泵，以将所述第二集水池内的循环水供给初级清洗区。