[实用新型]基板显影后清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及光刻技术，特别是涉及一种基板显影后清洗装置。

背景技术

在液晶显示装置的制作过程中，基板都需要经过涂布光刻胶、曝光、显影这样一个光刻工序。显影的目的是去除在曝光过程中发生了光学反应的光刻胶，从而在基板上形成与曝光掩模板对应的光刻胶图形，显影后基板上覆盖有光刻胶的位置，在下一个工序刻蚀的过程中由于光刻胶的保护，相应位置的金属或非金属膜不会受到损害，从而最后达到在基板上形成TFT（Thin Film Transistor,薄膜场效应晶体管）电路的目的。

显影后还需要对玻璃基板上被显影的光刻胶和残留的显影液进行清洗，如果清洗不彻底，基板上会残留药液以及光刻胶颗粒，最终会引起基板不良。

目前的基板显影后清洗装置的结构示意图参照图1所示，图中A为基板显影区，H表示显影后基板走向，基板显影区紧挨着显影后清洗装置，显影后清洗装置包括三级清洗单元，对显影后基板进行三个阶段的清洗，三级清洗单元具体设置为依次邻接的初级清洗区B、中级清洗区C和终极清洗区D，初级清洗区B上设置有初级供水管1和初级排废管2，由初级供水管1向初级清洗区B内供给纯水以对显影后基板进行一级清洗，之后，初级清洗区B内被污染的浑浊水由初级排废管2排出；一级清洗后基板被送往中级清洗区C，中级清洗区C上设置有中级供水管3和中级排废管4，由中级供水管3向中级清洗区C内供水以对一级清洗后基板进行中级清洗，之后，中级清洗区C内被污染的浑浊水由中级排废管4排出；中级清洗后基板被送往终级清洗区D，终级清洗区D上设置有终级供水管5和终级排废管6，由终级供水管5向终级清洗区D内供纯水以对中级清洗后基板进行终级清洗，之后，终级清洗区D内被污染的浑浊水由终级排废管6排出。显影后基板清洗的目的是除去其上的光刻胶和显影液，初级清洗去除了基板上大部分的光刻胶和显影液，中级清洗去除了剩余的一部分，最后通过终极清洗将光刻胶和显影液完全清除，终极清洗为了保证基板的清洁度，必须使用纯水，初级清洗和中级清洗对清洗用水的要求不局限于纯水，所以为了节约用水，在中级清洗区C和终极清洗区D之间设置了第一集水池7，与终极排废管6相连通，收集终极清洗区D排出的含有极少光刻胶和显影液的废水，该废水作为循环水，由与第一集水池7相连通的中级供水管3将该循环水供给中级清洗区C。

但是，仅在中级清洗区C使用终极清洗区D排出的循环水对基板进行清洗，并没有实现完全的节约用水，在初级清洗区B内依然使用纯水对基板清洗，造成纯水的过度浪费。

实用新型内容

（一）要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是与现有技术相比，如何实现显影后基板清洗过程中的节约用水。

（二）技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种基板显影后清洗装置，包括依次邻接的初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区，显影后基板依次经过初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区进行清洗，每个清洗区设置有供水管和排废管，所述中级清洗区和终极清洗区之间设置有第一集水池，终极清洗区的终极排废管和中级清洗区的中级供水管分别与所述第一集水池相连，所述初级清洗区和中级清洗区之间设置有第二集水池，初级清洗区的初级供水管和中级清洗区的中级排废管与所述第二集水池相连。

其中，所述第一集水池和第二集水池相连通，以将第二集水池内的循环水输送至第一集水池。

其中，所述第一集水池和第二集水池邻接设置，共用一块侧壁板，该共用侧壁板上设置有第一溢流孔，所述第一集水池和第二集水池通过第一溢流孔连通。

其中，所述第二集水池上设置有第二溢流孔，所述第二溢流孔的高度低于所述第一溢流孔的高度。

其中，所述中级供水管上设置有动力泵，以将所述第一集水池内的循环水供给中级清洗区。

其中，所述初级供水管上设置有动力泵，以将所述第二集水池内的循环水供给初级清洗区。

（三）有益效果

上述技术方案所提供的基板显影后清洗装置，在第一集水池的基础上增设了第二集水池，将中级清洗区用完的废水收集，循环至初级清洗区进行再利用，在保证显影后基板清洗效果的同时大幅节约用水；同时在第一集水池上设置第一溢流孔，将第一集水池内充足的循环水补至第二集水池利用，为防止倒流，在第二集水池上开设高度低于第一溢流孔的第二溢流孔，当第一集水池液位达到上限时自动溢流到第二集水池，第二集水池液位达到上限时自动排出，不需动力和人为控制，自动化能力强，易实现。

附图说明

图1是现有技术中基板显影后清洗装置的结构示意图；