[实用新型]一种干法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201220397628.6 | 申请日： | 2012-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN202796846U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 蒋会刚;刘华锋;刘佳;任志强;谢海征 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/244 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 张振伟;王黎延 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 设备 | ||
1.一种干法刻蚀设备，包括反应腔，其特征在于，所述反映腔中设置有颜色传感器，所述颜色传感器位于能与所述反应腔隔绝的空间中，所述空间通过活动挡板与所述反应腔封闭或连通；
所述活动挡板连接于外部控制部件，所述控制部件控制所述活动挡板移动，使所述空间与所述反应腔保持封闭或连通。
2.根据权利要求1所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述反应腔中还设置有挡光板；
所述挡光板上设置有槽，所述活动挡板封闭所述槽的槽口；所述颜色传感器位于所述槽与所述活动挡板封闭的空间内。
3.根据权利要求1所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述颜色传感器为能检测出所述反应腔中气体变为红色或黄色的传感器。
4.根据权利要求3所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述颜色传感器为对红色或黄色气体敏感的传感器。
5.根据权利要求1至4任一项所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述干法刻蚀设备还包括下部电极，所述下部电极的表面分布有表面浮点；
所述表面浮点设置在玻璃基板上的面板与面板之间的区域。
6.根据权利要求5所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述干法刻蚀设备还包括静电吸盘，所述静电吸盘支撑吸附玻璃基板。
7.根据权利要求6所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述干法刻蚀设备还包括背冷却装置，所述背冷却装置位于所述下部电极下方。
8.根据权利要求7所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述下部电极上还设置有气孔；
所述背冷却装置通过管路与所述下部电极上的所述气孔连接。
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