[实用新型]涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种涂布机显像机，具体涉及一种涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置。

背景技术

现有的涂布机显像机，对于工艺中使用到的各种药液如预涂胶HMDS(六甲基二硅胺)、有机溶剂、显像液、去离子水等的喷吐流量只能通过浮球流量计显示，并且没有判断异常和报警的功能。因此，对于涂布机显像机的药液喷吐流量的监测，只能单纯依靠操作人员或者维护人员划定浮球流量计的流量刻度位置并通过日常点检来观察，缺乏时效性和准确性。由于喷吐流量的异常而导致的硅片低良率、报废的事例也无从查证。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置，它可以监测药液喷吐流量到位状况。

为解决上述技术问题，本实用新型涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置的技术解决方案为：

包括流量监测主控制器，流量监测主控制器的输入连接信号放大器的一端，信号放大器的另一端连接到位传感器，到位传感器设置于浮球流量计的浮球上；流量监测主控制器的输出连接电磁阀电信号采集分路，电磁阀电信号采集分路连接喷吐控制电磁阀。

所述到位传感器为光电式到位传感器。

所述信号放大器为光电式信号放大器。

本实用新型可以达到的技术效果是：

本实用新型通过光电到位传感器采集浮球流量计的流量数据，并通过流量监测主控制器进行识别和判断，能够准确而实时地监测药液喷吐流量到位状况，有效地避免由于药液喷吐流量异常且无机台报警造成的硅片工艺不全、低良率、报废等现象的发生。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明：

图1是本实用新型涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置的示意图。

图中附图标记说明：

1为流量监测主控制器，            2为电磁阀电信号采集分路，

3为光电到位传感器，                4为光电信号放大器，

10为浮球流量计，                   20为喷吐控制电磁阀。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置，包括流量监测主控制器1，流量监测主控制器1的输入连接光电信号放大器4的一端，光电信号放大器4的另一端连接光电到位传感器3，光电到位传感器3设置于浮球流量计10的浮球上；流量监测主控制器1具有时序处理和报警输出功能，光电信号放大器4具有感度调节功能；

流量监测主控制器1的输出连接电磁阀电信号采集分路2，电磁阀电信号采集分路2连接喷吐控制电磁阀20；电磁阀电信号采集分路2用于向流量监测主控制器1提供喷吐控制电磁阀20的直流5伏信号。

本实用新型的工作原理如下：

通过光电到位传感器3采集浮球流量计10的流量数据，通过电磁阀电信号采集分路2采用喷吐控制电磁阀20的喷吐信号，传送给带有时序和判断功能的流量监测主控制器1。

本实用新型设置于药液喷吐管路的浮球流量计上，用于硅片制造过程中流量的监控。