[实用新型]涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置有效
| 申请号： | 201220335844.8 | 申请日： | 2012-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN202736894U | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 丘志春;陈显旻;吴长明 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 张骥 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 涂布机 显像 药液 喷吐 流量 监测 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置，其特征在于：包括流量监测主控制器，流量监测主控制器的输入连接信号放大器的一端，信号放大器的另一端连接到位传感器，到位传感器设置于浮球流量计的浮球上；流量监测主控制器的输出连接电磁阀电信号采集分路，电磁阀电信号采集分路连接喷吐控制电磁阀。
2.根据权利要求1所述的涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置，其特征在于：所述到位传感器为光电式到位传感器。
3.根据权利要求1或2所述的涂布机显像机药液喷吐流量的监测装置，其特征在于：所述信号放大器为光电式信号放大器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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