[实用新型]不透光晶圆的劈裂取像结构有效

专利信息
申请号: 201220261681.3 申请日: 2012-06-04
公开(公告)号: CN202651071U 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 陈孟端 申请(专利权)人: 正恩科技有限公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 不透光 劈裂 结构
【权利要求书】:

1.一种不透光晶圆的劈裂取像结构,所述劈裂取像结构安装在一晶圆劈裂机上,用于对经过背镀处理而不透光的一晶圆进行取像,所述晶圆劈裂机具有固定所述晶圆的一晶圆固定座、一悬臂杆及固定在所述悬臂杆上的一劈刀,其特征在于,所述劈裂取像结构包含:

一上图像获取元件,所述上图像获取元件固定在所述悬臂杆上;

一压制元件,所述压制元件抵压所述晶圆;以及

一发光元件,所述发光元件设置在所述晶圆的一侧的上方,且所述上图像获取元件位于所述晶圆的另一侧的上方,并且所述发光元件产生一成像光源入射所述晶圆,并反射至所述上图像获取元件,并且所述压制元件具有供所述成像光源通过的至少一开槽。

2.根据权利要求1所述的不透光晶圆的劈裂取像结构,其特征在于,所述发光元件设置在所述压制元件上。

3.根据权利要求1所述的不透光晶圆的劈裂取像结构,其特征在于,所述压制元件具有供所述劈刀通过的一劈裂槽,且所述至少一开槽为两个开槽,并一体成型设于所述劈裂槽的两侧。

4.根据权利要求3所述的不透光晶圆的劈裂取像结构,其特征在于,所述两个开槽为上宽下窄的形状而分别形成供所述成像光源掠过的一斜面。

5.根据权利要求1所述的不透光晶圆的劈裂取像结构,其特征在于,所述发光元件包含一发光二极管灯条、一载板及一散热片,所述发光二极管灯条与所述散热片分设于所述载板的两侧,且所述散热片连接所述压制元件。

6.根据权利要求1所述的不透光晶圆的劈裂取像结构,其特征在于,所述劈裂取像结构还包含一下图像获取元件,所述下图像获取元件设于所述晶圆的正下方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于正恩科技有限公司,未经正恩科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220261681.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top