[实用新型]方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种检测仪，尤其涉及一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪。 

背景技术

随着全球微电子产业的迅速发展，集成电路掩膜版基片、各类方形超高质量表面光学基片在该领域的应用越来越大。在这些超高质量表面要求的方形玻璃基片的生产过程中，需要对这些产品的各类尺寸误差进行全面检测。“方形玻璃基片平面度”质量指标对产品的应用十分重要，直接影响到微电子(集成电路掩膜版)行业大批量产品生产的使用效果。 

在以往的平面度检验测试中，常使用“激光平面干涉仪”(如中科院光机所制PG15-J4型激光平面干涉仪)测量光圈的方法虽然精度高达0.2～0.3μm，但对于大规模生产使用不便，影响生产效率，特别是在研磨阶段，毛面不能检测，并且对于大面积大尺寸(边长为4、5、6、7英寸)和超薄型的玻璃基片测量十分困难(光圈变形无法数清)，并无法实行数字化直读。 

实用新型内容

本实用新型提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，旨在解决上述缺陷。 

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其包括一个三角形工作台面和一个圆盘，在所述工作台面上分别安置三个圆座，每个圆座上安置一个能够转动的小钢球，所述三个圆座分别设置于靠近所述三角形工作台面的三条边处，在所述三角形工作台面的边缘三角位置，均分别设有一小滚珠轴承固定座，所述圆盘与所述三个小滚珠轴承固定座滚动连接，所述圆盘中央设有一开口，所述开口的四个角上均分别设有安置方形玻 璃基片的槽座，在所述工作台面的中心位置下方设有一台千分表。 

进一步的，所述三个圆座与其相应的所述三个小滚珠轴承固定座均能够分级调整，所述级为2或3或4。 

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果： 

与现有技术相比，本实用新型提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的有益效果是：克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高(可达0.001mm)，特别适用于常用大面积(边长为4、5、6、7英寸)超薄型易变性的方形玻璃玻璃基片，该方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪不仅操作方便，检查直观，而且工作效率极高，十几秒钟即可从千分表中读出数值。 

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步说明： 

图1为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的主视图； 

图2为图1中K处的放大图； 

图3为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的俯视图。 

在图1至图3中， 

1：圆座；2：小滚珠轴承固定座；3：工作台面；4：千分表；5：方形玻璃基片；6：圆盘；11：小钢球；61：槽座。 

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。 

本实用新型的核心思想在于，提供一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，其包括一个三角形工作台面和一个圆盘，在所述工作台面上分别安置三个 圆座，每个圆座上安置一个能够转动的小钢球，所述三个圆座分别设置于靠近所述三角形工作台面的三条边处，在所述三角形工作台面的边缘三角位置，均分别设有一小滚珠轴承固定座，所述圆盘与所述三个小滚珠轴承固定座滚动连接，所述圆盘中央设有一开口，所述开口的四个角上均分别设有安置方形玻璃基片的槽座，在所述工作台面的中心位置下方设有一台千分表，与现有技术相比，本实用新型提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的有益效果是：克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高，特别适用于常用大面积超薄型易变性的方形玻璃玻璃基片，该方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪不仅操作方便，检查直观，而且工作效率极高，十几秒钟即可从千分表中读出数值。 

请参考图1至图3，图1为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的主视图；图2为图1中K处的放大图；图3为本实用新型实施例提供的方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪的俯视图。