[实用新型]晶粒的护膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种护膜装置，特别是涉及一种可以将晶粒包覆其中，并保护该晶粒的护膜装置。

背景技术

在晶圆的加工过程中，为了保护晶圆以及由晶圆切割而成的晶粒，通常会将晶圆及晶粒包覆在一个具有两层可分离的护膜单元间的护膜装置，这种护膜装置在使用的过程中需要先将所述护膜单元分离，然后将晶圆及切割后的晶粒夹设其中后再粘合，当晶粒要进行加工(封装)时，再将其中一层护膜单元撕离。为了达到保护晶粒及方便分离的目的，以往的护膜装置会在所述护膜单元的其中一个上涂布一层离型剂，但由于离型剂会残留在护膜单元的表面，并有污染晶粒表面的疑虑，因此，如何在不需要使用离型剂的情况下，让该护膜装置兼具有粘贴稳固及方便撕开的优点，为使用在晶圆领域的护膜装置设计上的重要课题。

参阅图1、2，是申请人之前所申请的中国台湾证书号数第M407248号实用新型，该实用新型公开一种护膜装置1，其主要包含分别位于数个晶粒10相反侧的一个第一护膜单元11及一个第二护膜单元12，该第一护膜单元11包括一片纸材制成的第一基材层111，以及一片邻近所述晶粒10的贴覆层112，该贴覆层112具有数个往所述晶粒10方向凸起的凸台113，以及一个纵横交错且相对下凹的气流通道114。而该第二护膜单元12包括一个第二基材层121，以及一个位于该第二基材层121下方并与所述晶粒10粘贴的粘贴层122。

前述实用新型通过该贴覆层112及该粘贴层122的材料选择，让两者可以彼此地粘贴在一起，而通过该贴覆层112上设置所述凸台113，可以减少该贴覆层112及该粘贴层122之间的粘贴面积，也就是让彼此间以点状分布的方式粘贴，同时方便气体由该气流通道114排出。

上述实用新型虽然可以达到预期的目的，但是在加工的过程中，需要在一支滚轮(图未示)的表面雕刻出与所述凸台113及纵横交错的该气流通道114相配合的凹凸表面，也就是，该滚轮的表面相对于所述凸台113的部位是相对内凹的凹槽，由于前述凸台113是等间隔设置，因此，要在该滚轮的表面雕刻出对应所述凸台113的凹槽，不但加工雕刻的面积大、不连贯、工序复杂，也会提高加工的成本及困难度。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种可以简化加工工序，同时提高加工方便性的晶粒的护膜装置。

本实用新型护膜装置是用来保护数个晶粒，并包含一个第一护膜单元，以及一个和该第一护膜单元以可撕离方式粘贴的第二护膜单元，该第一护膜单元包括一个第一基材层，以及一个与该第一基材层结合的贴覆层，而该第二护膜单元包括一个第二基材层，以及一个能和该贴覆层粘合的粘贴层，该第一护膜单元的贴覆层具有一个与该第二护膜单元的粘贴层贴合的贴靠网面，以及数个间隔设置且与该贴靠网面具有高度差的凹室。

本实用新型所述的护膜装置，该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面具有数条彼此平行的第一凸条部，以及数条相互平行并与所述第一凸条部交叉设置的第二凸条部。

本实用新型所述的护膜装置，该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面与所述凹室的高度差是3μm-50μm。

本实用新型所述的护膜装置，该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面与所述凹室的高度差是10μm-25μm。

本实用新型所述的护膜装置，该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面的面积是该贴覆层的表面积的20-60％。

本实用新型所述的护膜装置，该第一护膜单元还包括一个与该第一基材层结合的表层，该表层与该贴覆层分别位于该第一基材层的相反侧。

本实用新型所述的护膜装置，该第一护膜单元的第一基材层具有一个邻近该表层的印刷面。

本实用新型的有益效果在于：前述设计可以在不需要使用离型剂的情况下，让该第一护膜单元及该第二护膜单元可以轻易地分离，且由于该贴靠网面及所述凹室在制造时，只要利用简单的车沟技术就可以在滚轮表面形成交叉设置且对应的凹沟，故本实用新型也可以简化加工工序，同时提高加工方便性。

附图说明

图1是中国台湾证书号数第M407248号实用新型的一个立体示意图；

图2是该图1的实用新型的一个使用状态参考图；

图3是本实用新型护膜装置的一个较佳实施例的一个立体示意图；

图4是该较佳实施例的一个使用状态参考图，说明该护膜装置与数个晶粒的相对关系；

图5是该较佳实施例的一个加工示意图，说明该护膜装置的一个第一护膜单元与一个滚轮的相对关系。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。