[实用新型]晶粒的护膜装置有效
| 申请号： | 201220159280.7 | 申请日： | 2012-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN202592832U | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 黄培峰;林道新;杨嘉彬;方聪贤 | 申请（专利权）人： | 鉅仑科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B3/30 | 分类号： | B32B3/30;B32B27/06;B32B7/12 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 张雅军 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶粒 装置 | ||
1.一种晶粒的护膜装置，用来保护数个晶粒，并包含；一个第一护膜单元及一个第二护膜单元，该第一护膜单元包括一个第一基材层，以及一个与该第一基材层结合的贴覆层，而该第二护膜单元是可撕离地和该第一护膜单元粘贴，并包括一个第二基材层，以及一个能和该第一护膜单元的贴覆层粘合的粘贴层；其特征在于：
该第一护膜单元的贴覆层具有一个贴靠网面，以及数个与该贴靠网面具有高度差的凹室。
2.根据权利要求1所述的晶粒的护膜装置，其特征在于：该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面具有数条彼此平行的第一凸条部，以及数条相互平行并与所述第一凸条部交叉设置的第二凸条部。
3.根据权利要求2所述的晶粒的护膜装置，其特征在于：该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面与所述凹室的高度差是3μm-50μm。
4.根据权利要求3所述的晶粒的护膜装置，其特征在于：该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面与所述凹室的高度差是10μm-25μm。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的晶粒的护膜装置，其特征在于：该第一护膜单元的贴覆层的贴靠网面的面积是该贴覆层的表面积的20-60％。
6.根据权利要求5所述的晶粒的护膜装置，其特征在于：该第一护膜单元还包括一个与该第一基材层结合的表层，该表层与该贴覆层分别位于该第一基材层的相反侧。
7.根据权利要求6所述的晶粒的护膜装置，其特征在于：该第一护膜单元的第一基材层具有一个邻近该表层的印刷面。
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