[实用新型]光学镀膜测控系统

说明书

技术领域

本实用新型属于测控系统，尤其是指一种应用于光学的测量控制系统。

背景技术

随着与IBM微机兼容的微机的发展，微型计算机已经广泛应用于工业领域。对于真空光学镀膜机，因现代产品对镀膜精度的要求高，国产镀膜机测控系统的精度低无法满足要求，致使国产镀膜机的控制系统一直依赖美国进口，美国生产的光学镀膜机控制器几乎垄断国际市场。

发明内容

本实用新型提供一种光学镀膜测控系统，以解决当前测控系统精度低，不对满足高品质生产要求的问题。

本实用新型的技术方案是：传感器一与滤波器电连接，传感器二与放大器电连接，滤波器、放大器分别与可编程门阵列电连接，可编程门阵列分别与光电隔离开关一、光电隔离开关二电连接，电源分别与传感器一、传感器二电连接，PCI总线 与可编程门阵列电连接。

本实用新型的优点在于：结构新颖，以功能强大的微机为基础，充分利用微机软硬件的环境，配合微机总线PCI插卡形式的精密测量及伺服控制系统，并以高集成度，集所有功能于一块PCI插卡中，安装、使用非常方便，具有良好的可靠性，应用于光学镀膜机精密测量和精密运动控制的场合。

附图说明

图1是本实用新型的电路原理框图。

具体实施方式

传感器一1与滤波器3电连接，传感器二2与放大器4电连接，滤波器3、放大器4分别与可编程门阵列5电连接，可编程门阵列5分别与光电隔离开关一6、光电隔离开关二7电连接，电源8分别与传感器一1、传感器二2电连接，PCI总线9 与可编程门阵列5电连接。

两个传感器对两路镀膜厚度进行采样，经滤波、放大处理后，由可编程门阵列FPGA进行处理后，经光电隔离开关输出，可编程门阵列FPGA用于同步采样。