[实用新型]感测试片结构

权利要求书

1.一种感测试片结构，其特征在于，包含：

一绝缘基板；以及

一线路金属图案总成，形成在绝缘基板上，包含由下而上依序堆叠的一第一金属图案层、一第二金属图案层、一第三金属图案层、一第四金属图案层，以及一第五金属图案层，

其中该第一金属图案层、该第二金属图案层、该第三金属图案层、该第四金属图案层以及该第五图案层的图形及位置完全重叠，且该第一金属图案层的厚度范围在20～50纳米，是以铬、镍、钛、铝、锡、铟、钯、钨、铁、金、银、铂、钢的至少其中之一所制成，而该第二金属图案层的厚度范围在40～90纳米，是以铜、镍、钛、铝、锡、铟、钯、钨、铁、金、银、铂、钢的至少其中之一所制成。

2.如权利要求1所述的感测试片结构，其特征在于，该绝缘基板是以聚对苯二甲酸乙二酯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚酰亚胺所制成，其厚度范围为25～250微米。

3.如权利要求1所述的感测试片结构，其特征在于，该第三金属图案层的厚度范围在20～30微米，是以钯所制成，该第四金属图案层的厚度范围在20～30微米，是以镍所制成；而第五金属图案层的厚度范围在2～5微米，是以金、银、铜、镍、钛、钯的至少其中之一所制成。