[实用新型]一种基于可调变掩膜版的曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及掩膜制造设备技术领域，特别是涉及一种基于可调变掩膜版的曝光装置。

背景技术

掩膜版作为转移微细图形的工具，用于掩膜制造工艺的批量复制生产，在基板生产中具有承上启下的关键作用，是显示设备产业链中不可或缺的重要环节。基板生产工艺过程中，有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩膜版，掩膜版的数量代表了基板生产过程中采用的光刻工艺子流程的数目，减少掩膜版的数量和光刻的次数是提高成品率、缩短制作周期、降低能耗的关键。

掩膜版价格昂贵，若在掩膜版设计、制作、运输或保存等过程中有任何差错，掩膜版就无法使用，给设计者和生产者均带来很大困扰。另外，以往基板生产工艺过程中所使用掩膜版数量的减少，往往是从基板的结构和工艺简化来考虑，忽略了从掩膜制造设备本身来考虑问题。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是提供一种与可调变掩膜版相匹配的曝光装置，以控制调整掩膜版的曝光图形和曝光量，提高光刻工艺中的曝光质量。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其包括：曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。

其中，所述曝光机主体还包括掩膜版台和基板台，所述掩膜版台上放置所述可调变掩膜版；所述基板台上放置需曝光的基板。

其中，所述曝光机主体还包括光源系统，所述光源系统与所述控制系统相连，所述光源系统为所述曝光操作提供光源。

其中，所述光源系统包括光源和将所述光源发出的光改变出射方向以满足曝光操作的导光系统。

其中，所述曝光装置还包括掩膜版储存箱，其与所述曝光机主体相连，所述掩膜版储存箱内存储可调变掩膜版。

其中，所述曝光装置还包括空调系统，所述空调系统与所述控制系统相连，所述空调系统用于控制曝光装置内处于恒温状态。

其中，所述曝光机主体内还设置有监视器，所述监视器与所述控制系统相连，所述监视器用于监测和控制调整曝光操作中所述可调变掩膜版与所述基板的对位标记。

(三)有益效果

上述技术方案所提供的基于可调变掩膜版的曝光装置，设置了与可调变掩膜版相匹配的结构，以完成基板制作工艺中的曝光操作，不同的曝光步骤中，可调变掩膜版不需更换即可曝光，可调变掩膜版在其正常使用寿命范围之内时也不需卸载，整个曝光装置结构简单，基板制作成本低，工艺操作简单，节省能耗。

附图说明

图1是本实用新型实施例1中基于可调变掩膜版的曝光装置的结构示意图；

图2是本实用新型实施例2中基于可调变掩膜版的曝光装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

常规的掩膜版由苏打玻璃或石英材质的基板面和铬材质的图案面组成，其掩膜图案按设计要求已经预先确定，与曝光装置的控制台之间没有信息传输，当需曝光其它图形时，通过掩膜版更换器来更换掩膜版。目前，出现了一种可调变掩膜版，该种掩膜版具有显示功能，利用显示图案对紫外(UV)光线的通过或阻断进行选择来实现掩膜版的基本功能，最终实现图形的转移。可调变掩膜板主要包括：图案显示屏，用于呈现掩膜图案；控制单元，用于根据光刻工艺中所需的掩膜图案的灰阶信息控制所述图案显示屏在不同区域的光透过量，以呈现所述掩膜图案。该种掩膜版的显示图案可以按照需要进行调节，以实现不同图形的转移。应用该种掩膜版进行阵列基板的生产，只需用一片就能完成所有基板工艺的制作。

本实用新型实施例所提供的曝光装置即是基于上述可调变掩膜版所设置的，下面通过两个实施例来进行其结构的描述。

实施例1

图1示出了本实施例中基于可调变掩膜版的曝光装置的结构示意图。本实施例曝光装置包括以下部分：

曝光机主体，设置在曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与可调变掩膜版相连的控制系统；曝光机主体用于采用可调变掩膜版进行曝光操作；控制系统用于控制可调变掩膜版图形的变化；可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。