[实用新型]一种基于可调变掩膜版的曝光装置

权利要求书

1.一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其特征在于，包括：曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光机主体还包括掩膜版台和基板台，所述掩膜版台上放置所述可调变掩膜版；所述基板台上放置需曝光的基板。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光机主体还包括光源系统，所述光源系统与所述控制系统相连，所述光源系统为所述曝光操作提供光源。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述光源系统包括光源和将所述光源发出的光改变出射方向以满足曝光操作的导光系统。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括掩膜版储存箱，其与所述曝光机主体相连，所述掩膜版储存箱内存储可调变掩膜版。

6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：空调系统，与所述控制系统相连，所述空调系统用于控制曝光装置内处于恒温状态。

7.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光机主体内还设置有监视器，所述监视器与所述控制系统相连，所述监视器用于监测和控制调整曝光操作中所述可调变掩膜版与所述基板的对位标记。