[实用新型]Ag靶材

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空磁控溅射技术中靶材结构的技术领域，尤其涉及Ag靶材。

背景技术

真空磁控溅射技术指的是：在具有一定真空度的真空腔室内，处于负电压的两极间的工作气体(正离子)在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量，并迅速轰击靶材，从而使处于阴极上的靶材的原子飞向玻璃基片，在玻璃基片上沉积膜层。

由真空磁控溅射生产的低辐射镀膜玻璃的基本膜层为金属膜层，该金属膜层是由Ag层和化合物层组成的，Ag作为一种天然存在的低辐射物质，有大量的自由电子，从而具有优良的导电性能和优异的低辐射性能，是低辐射镀膜玻璃金属膜层不可缺少的重要组成部分，其不仅对镀膜玻璃的性能有很大的影响，而且，其颜色的敏感性质对整个镀膜玻璃的外观颜色质量有着至关重要的影响。随着镀膜技术和低辐射镀膜玻璃的日益发展，金属膜层中的Ag层的均匀性的重要性越发突出。

在传统的技术中，如图1所示，Ag靶材1″在整个溅射平面空间呈对称结构，其包括两层结构一致且平行设置的靶材块组，靶材块组由多个靶材块11″组成，这样结构的Ag靶材1″在同一溅射区域存在着较多的靶材缝隙，在整个环形平面的Ag靶材1″的最端部溅射区域，端部靶材缝隙15″的数目为6个，并且，在Ag靶材1″的中间溅射区域的同一位置上，中间靶材缝隙14″数目的数目为2个，这样，严重影响Ag层溅射后沉积的均匀性，对整个镀膜产品的外观颜色质量产生很大的影响，导致镀膜玻璃在室外光线的照射下颜色差异较大，有较为明显的色道现象，严重制约着镀膜玻璃的推广和应用。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中的不足，提供了Ag靶材，该Ag靶材中的靶材缝隙少，使得镀膜产品的金属膜层中的Ag层均匀性好，镀膜产品外观颜色质量高且没有明显的色道现象。

本实用新型是这样实现的，Ag靶材，置于真空腔室的正交电磁场的阴极上，包括数个依序相接围成环形结构的靶材块，所述分别置于两端部的靶材块为呈直角弯折状的弯折靶材块。

进一步地，所述Ag靶材包括两层结构一致且相向设置的靶材块组，所述靶材块组包括所述一处于端部的弯折靶材块以及数个依序相接且呈直条状的直条靶材块，所述两层靶材块组关于所述Ag靶材的中心对称。

进一步地，所述两层靶材块组分别为上层靶材块组和下层靶材块组，所述上层靶材块组一端部的弯折靶材块连接于下层靶材块组一端部的直条靶材块，所述下层靶材块组另一端部的弯折靶材块连接于所述上层靶材块组另一端部的直条靶材块。

进一步地，所述上层靶材块组和所述下层靶材块组之间具有中间区域，所述中间区域设有用于可装于所述阴极上的中间压条。

进一步地，所述上层靶材块组的上侧和所述下层靶材块组的下侧分别设有可装于所述阴极的侧压条。

进一步地，所述弯折靶材块的长边的长度范围为440mm～890mm，短边的长度范围为100mm～350mm。

进一步地，所述直条靶材块长边的长度范围为：440mm～890mm。

与现有技术相比，本实用新型中的Ag靶材为数个靶材块相接形成环形结构，且两端部的靶材块为呈直角弯折状的弯折靶材块，这样，可将Ag靶材端部的靶材间隙减少为一个，且Ag靶材的中间区域同一位置上的靶材间隙也减少了，这样，可以大大提高由该Ag靶材产生的金属膜层的均匀性，使得整个镀膜产品的外观颜色质量较高，且色道现象不明显，同时，也大大缩短了镀膜产品的加工工时，降低企业的生产成本。

附图说明

图1是现有技术提供的Ag靶材的俯视示意图；

图2是本实用新型实施例提供的Ag靶材的俯视示意图；

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型提供了Ag靶材，置于真空腔室的正交电磁场的阴极上，包括数个依序相接围成环形结构的靶材块，所述分别置于两端部的靶材块为呈直角弯折状的弯折靶材块。

本实用新型中，将Ag靶材设计为环形结构，且端部的靶材块为呈直角弯折的弯折靶材块，可以减少该Ag靶材的靶材间隙，大大提高由该Ag靶材产生的金属膜层的均匀性，使得整个镀膜产品的外观颜色质量较高，且色道现象不明显，同时，也大大缩短了镀膜产品的加工工时，降低企业的生产成本。