[实用新型]一种热场装置有效
| 申请号: | 201220021343.2 | 申请日: | 2012-01-17 |
| 公开(公告)号: | CN202530197U | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
| 发明(设计)人: | 钱兵 | 申请(专利权)人: | 徐州协鑫光电科技有限公司 |
| 主分类号: | C30B17/00 | 分类号: | C30B17/00;C30B29/20 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;赵爱军 |
| 地址: | 221000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及晶体生长技术领域,尤其涉及一种热场装置。
背景技术
在使用泡生法生长蓝宝石晶体时,由于蓝宝石晶体熔点高达2045℃,所以所使用的热场装置的各部件(坩埚、坩埚托盘、支撑柱、支撑柱底座及隔热屏)需采用耐高温的钨、钼等材质制成。泡生法生长蓝宝石晶体的生长周期长,在长期的持续高温状态下,热场装置的各部件之间由于原子间扩散现象极易发生粘连。当晶体生长结束后提取晶锭或拆装热场装置时,需人工将粘连在一起的部件取下,为取锭造成不必要的麻烦,严重时还会毁损相应的设备。
为避免粘连,目前普遍采用的技术是在各部件的易粘连处铺撒锆砂,锆砂是具有高耐火度的硅酸砂,使用这种方法可以在一定程度上避免粘连。但是由于锆砂本身颗粒不均匀,并且人工铺撒不能达到绝对均匀的状态,使理想状态大打折扣,另外,锆砂需要在每次使用热场装置时重复铺撒,增加了工作的繁琐程度。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供一种热场装置,能够有效防止热场装置中的各部件在高温状态下的粘连现象。
为解决上述问题,本实用新型提供一种热场装置,包括:
坩埚、设置于所述坩埚下方的坩埚托盘、设置于所述坩埚托盘下方的支撑柱以及设置于所述支撑柱下方的支撑柱底座,其中,所述坩埚与所述坩埚托盘之间、所述坩埚托盘与所述支撑柱之间和/或所述支撑柱与所述支撑柱底座之间设置有用于防粘连的涂层。
可选的,所述涂层设置于所述坩埚的与所述坩埚托盘接触的下表面上和/或所述坩埚托盘的与所述坩埚接触的上表面上。
可选的,所述涂层设置于所述坩埚托盘的与所述支撑柱接触的下表面上和/或所述支撑柱的与所述坩埚托盘接触的上表面上。
可选的,所述涂层设置于所述支撑柱的与所述支撑柱底座接触的下表面上和/或所述支撑柱底座的与所述支撑柱接触的上表面上。
可选的,所述支撑柱的侧表面上设置有所述涂层。
可选的,所述涂层的原料包括氧化锆和/或氧化钇。
可选的,所述涂层是通过等离子喷涂方式形成的。
本实用新型具有以下有益效果:
在热场装置的坩埚与坩埚托盘之间、坩埚托盘与支撑柱之间和/或支撑柱与所述支撑柱底座之间设置用于防粘连的涂层,避免了蓝宝石晶体生长加热过程中坩埚与坩埚托盘之间、坩埚托盘与支撑柱之间和/或支撑柱与支撑柱底座之间发生粘连,同时,还可以在支撑柱侧面上喷涂用于防粘连的涂层,防止支撑柱侧面与设置于外侧的隔热屏发生粘连,实现简单,成本较低,简化了晶锭提取的过程。
附图说明
图1为本实用新型实施例的热场装置的一结构示意图,
图2为本实用新型实施例的热场装置的另一结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。
如图1所示为本实用新型实施例的热场装置的一结构示意图,该热场装置为泡生法生长蓝宝石晶体用热场装置,包括:坩埚101、设置于所述坩埚101下方的坩埚托盘102、设置于所述坩埚托盘102下方的支撑柱103以及设置于所述支撑柱103下方的支撑柱底座104,其中,所述坩埚101与所述坩埚托盘102之间、所述坩埚托盘102与所述支撑柱103之间和/或所述支撑柱103与所述支撑柱底座104之间设置有用于防粘连的涂层(图未示出)。
所述坩埚101、坩埚托盘102、支撑柱103以及支撑柱底座104通常采用钨或钼耐高温的材质制成。
所述涂层为高硬度、高弹性模量、低气孔率和均匀性一致的涂层,所使用的原料具有熔点高、硬度大、化学性质稳定,且不与钨或钼起作用的材质,例如,氧化锆和/或氧化钇,从而能够防止所述坩埚101与所述坩埚托盘102之间、所述坩埚托盘102与所述支撑柱103之间和/或所述支撑柱103与所述支撑柱底座104之间的粘连现象。
当然,本实用新型中的涂层采用的原料并不局限于氧化锆和/或氧化钇,与氧化锆和氧化钇具有类似性质的原料均可。
为了防止坩埚101与坩埚托盘102在高温状态下发生粘连,在本实用新型的一些实施例中,所述涂层可以设置于所述坩埚101的与所述坩埚托盘102接触的下表面上,或者,设置于所述坩埚托盘102的与所述坩埚101接触的上表面上,又或者,同时设置于所述坩埚101的与所述坩埚托盘102接触的下表面上以及所述坩埚托盘102的与所述坩埚101接触的上表面上。
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