[发明专利]喷墨头无效
申请号: | 201210592972.5 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103317851A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 古谷田实;星野友纪;大石直树 | 申请(专利权)人: | 东芝泰格有限公司 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/045 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷墨 | ||
1.一种喷墨头,其特征在于,包括:
绝缘基板;
压电部件,在所述绝缘基板上成列形成有多个压电部件,邻接的两个压电部件之间形成有被供给油墨的压力室;
电极,在所述压电部件的表面以及所述绝缘基板的表面连续地设置;
有机保护膜,覆盖所述电极的与所述油墨接触的面;
亲水膜,覆盖所述有机保护膜,该亲水膜在100℃以下的温度下成膜;
框部件,围绕着所述压电部件的列而设置在所述绝缘基板上的所述电极之上;以及
喷嘴板,设置于所述框部件上,具有在所述压力室开口的喷嘴。
2.根据权利要求1所述的喷墨头,其特征在于,
所述有机保护膜以及所述亲水膜还位于所述绝缘基板和所述框部件之间。
3.根据权利要求1所述的喷墨头,其特征在于,
所述有机保护膜以及所述亲水膜还位于所述框部件和所述喷嘴板之间。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的喷墨头,其特征在于,
所述亲水膜是通过原子层沉积法成膜的膜。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的喷墨头,其特征在于,
所述亲水膜是TiO2膜、Al2O3膜或者HfO2膜。
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