[发明专利]基板的制造方法及磁盘的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种基板的制造方法。特别是涉及基板的镜面抛光，作为对象的基板除搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置上的磁盘用基板以外，还包括光掩模基板、半导体基板、显示器用基板等。

背景技术

近年来，半导体、显示器、磁记录介质等的高精度化显著，其中，例如，对作为支撑高信息化社会的信息记录装置之一的磁盘装置(HDD)中所用的磁记录介质(磁盘)，要求记录密度的进一步提高和低噪音。为了满足这一要求，在磁记录介质的制造工序中，需要极高的清洁性和平滑性。

作为电脑等信息处理装置的外部存储装置，多使用磁盘装置(硬盘驱动器)。该磁盘装置中所使用的磁记录介质一般是在非磁性基板上依次设有非磁性金属基底层，由强磁性合金构成的薄膜磁性层、保护层、润滑层而构成的。

非磁性基板通常可使用：通过无电解镀敷法在由铝合金或者玻璃材料构成的盘状基材上形成NiP层且对其表面实施镜面加工而形成的具有平滑性极高的表面的基板或玻璃基板、其它的陶瓷等。

以往一直使用铝基板作为磁盘用基板。但是，最近，响应高记录密度化的追求，与铝基板相比可进一步缩小磁头和磁盘间间隔的玻璃基板的使用比率逐渐增高。另外，为了能够极大地降低磁头的浮起高度，采取对玻璃基板表面进行高精度抛光以实现高记录密度化。近年来，不仅对HDD的更高记录容量化、低价格化的要求增加，而且，为了实现这些要求，对磁盘用玻璃基板也逐渐需要更高质量化及低成本化。

如上所述，为了实现高记录密度化所必须的低浮起高度（浮起量），磁盘表面的高平滑性是必要而不可或缺的。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果要求高平滑性的基板表面，因此，需要对玻璃基板表面进行高精度的抛光。

对于基板表面的抛光，采用以氨基甲酸酯等为材料的抛光垫夹持基板并在它们之间供给含有抛光磨粒的浆料来进行。抛光磨粒介于抛光垫和基板之间，微弱地把持在抛光垫上并与基板接触，除去（抛光）基板表面层，抛光磨粒从抛光垫中脱离并排出。基板的表面粗糙度（精加工表面粗糙度）可通过抛光磨粒的大小来控制。然后，为了除去附着于基板表面的磨粒，进行刷洗等清洗工序。但是，近年来，磨粒微小化至粒径数+nm，除去磨粒而使表面清洁成为大的课题。

因此，为了解决该课题，也提出了在抛光后进行氟硅酸处理的方法（专利文献1）或降低加工压力且施加不含磨粒的清洗工序的方法（专利文献2）等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-36522号公报

专利文献2：日本特开2006-95676号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，在进行上述专利文献1中公开的利用氟硅酸等处理基板表面时，存在表面变粗糙的弊端，也导致制造成本上升。另外，在进行上述专利文献2中公开的抛光后供给纯水等不含磨粒的清洗液时，在直至成为稳定状态之前的期间，浆料中的磨粒浓度急剧变化而成为不稳定的状态。例如在抛光后更换成不含磨粒的清洗液时，一般认为存在如下不良情况：在抛光平板上混合存在高磨粒浓度的部分和不含磨粒的部分这两者，导致磨粒浓度不均匀、抛光品质及品质偏差恶化等，抛光稳定性降低。予以说明，在抛光液和清洗液中所含的物质不同的情况下也会产生 同样的问题。

另外，作用于基板的磨粒浓度急剧发生变化时，伴随表面粗糙度发生变化，抛光垫中所含的抛光碎渣及凝集的浆料直接与基板接触，由此引起划痕。另外，为了达到稳定状态，需要长时间的冲洗。

本发明正是为了解决这样的以往的课题而完成的，其目的在于提供一种基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法以及利用由该基板制造方法得到的基板的磁盘的制造方法，所述基板的制造方法可以通过简便的方法、以低成本制造高品质的基板，所述高品质基板的清洁度高、缺陷少、且优选用作对基板表面品质的要求比以往更严格的新一代的磁盘用基板。

用于解决课题的手段

本发明人发现，作为解决上述课题的手段，优选在抛光工序（处理）后进行分别使加工压力、浆料中的磨粒浓度及浆料供给量最佳化的清洗工序（处理）。