[发明专利]基板的制造方法及磁盘的制造方法

权利要求书

1.一种基板的制造方法，其特征在于，包括：

使用含有抛光磨粒的浆料和配备有一对抛光垫的平板，将所述浆料供给于所述抛光垫和基板之间，同时用所述一对抛光垫夹持所述基板的主表面来进行抛光的抛光处理；和

在该抛光处理后实施、且在下述条件下对基板的主表面进行处理的清洗处理：加工压力为2kPa～6kPa、且浆料中的磨粒浓度超过0(零)且在5重量％以下、且供给到每单位面积平板的浆料流量为0.25ml/分钟/cm²～5ml/分钟/cm²，

以(所述清洗处理的浆料中的磨粒浓度)/(所述抛光处理的浆料中的磨粒浓度)的浓度比表示时，该浓度比为0.5以下。

2.权利要求1所述的基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理时的加工压力为所述抛光处理时的加工压力的60％以下。

3.权利要求1或2所述的基板的制造方法，其特征在于，使用胶体二氧化硅作为所述抛光磨粒，进行所述抛光处理和所述清洗处理,使所述清洗处理后的基板主表面粗糙度按Ra计为0.2nm以下。

4.权利要求1或2所述的基板的制造方法，其特征在于，所述基板的制造方法还包括基板的化学强化处理，在该化学强化处理后进行所述抛光处理和所述清洗处理。

5.权利要求1或2所述的基板的制造方法，其特征在于，所述抛光处理中的浆料中的磨粒浓度至少比所述清洗处理时高，且为40重量％以下。

6.权利要求1或2所述的基板的制造方法，其特征在于，所述基板为磁盘用玻璃基板。

7.权利要求6所述的基板的制造方法，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板由可化学强化的无定形的铝硅酸盐玻璃形成。

8.权利要求1或2所述的基板的制造方法，其特征在于，所述基板为镀NiP基板。

9.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括：

使用具有配备有一对抛光垫的平板的抛光装置，将含有胶体二氧化硅的浆料供给于所述抛光垫和玻璃基板之间，同时用所述一对抛光垫夹持所述玻璃基板的主表面来进行抛光的抛光处理，和

在该抛光处理后，使用所述抛光装置，将含有浓度比所述抛光处理时的浆料低的胶体二氧化硅的浆料供给于所述抛光垫和所述玻璃基板之间，同时用所述一对抛光垫夹持所述玻璃基板的主表面进行滑动，由此除去附着于所述玻璃基板主表面的所述胶体二氧化硅的清洗处理；

所述清洗处理中的加工压力为所述抛光处理中的加工压力的60％以下，

所述清洗处理时的浆料中的胶体二氧化硅的浓度超过0(零)且在5重量％以下，且相对于所述抛光处理时的浆料中的胶体二氧化硅的浓度的浓度比为0.5以下。

10.权利要求9所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理时的每单位面积平板的浆料供给量为所述抛光处理时的每单位面积平板的浆料供给量的5倍以上。

11.一种磁盘的制造方法，其特征在于，在通过权利要求1～8任一项所述的制造方法得到的基板上或通过权利要求9或10所述的制造方法得到的磁盘用玻璃基板上至少形成磁性层。