[发明专利]采用激光加热的PVD设备

说明书

技术领域

本发明属于材料镀膜设备领域，尤其涉及一种采用激光加热的PVD设备。

背景技术

PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，指利用物理过程实现物质转移，将靶材蒸发源的原子或分子转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法为：在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

物理气相沉积技术已在镀膜领域广泛运用，现有技术中，加热方式一般都是使用红外加热靶材，将靶材激发形成镀膜粒子，使用红外加热靶材的方式效率低，所镀出来的膜厚也不均匀，镀膜表面粗糙。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种采用激光加热的PVD设备，其加热速度快，效率高，镀膜均匀、表面光滑平整。

本发明的技术方案是：一种采用激光加热的PVD设备，包括壳体，所述壳体具有密封的腔体，所述腔体内设有用于容放靶材的蒸发舟，所述壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供所述待镀材料离开的出料口，所述腔体内还设置有用于加热所述靶材的激光聚焦组件，所述蒸发舟设置于所述激光聚焦组件的上端。

进一步地，所述腔体内还设置有用于固定安装所述激光聚焦组件的基台，所述激光聚焦组件连接于所述基台，所述激光聚焦组件包括用于聚焦激光源的聚焦头和用于连接传输激光光纤的光纤连接管，所述聚焦头与所述光纤连接管相连接，所述基台的两侧设置有安装孔和固定槽，所述聚焦头插设于所述安装孔内，所述光纤连接管设置于所述固定槽内。

具体地，所述安装孔和固定槽所述设置有多个且均匀排列于所述基台相对的两侧面，所述聚焦头和所述光纤连接管相应地设置有多个，各所述聚焦头分别设置于所述安装孔内，各所述光纤连接管分别设置于所述固定槽内。

具体地，所述蒸发舟具有用于容纳所述靶材的容纳腔，所述蒸发舟上设置有用于喷射所述靶材受热后形成的镀膜粒子的喷口，所述喷口呈细缝状，所述喷口两侧的上方设置有用于改变所述镀膜粒子运动轨迹的磁极。

具体地，所述基台设置有所述聚焦头的一端与所述蒸发舟的底部相叠设连接。

进一步地所述基台连接有用于驱动所述基台相对所述待镀材料移动的驱动装置，所述驱动装置包括具有螺纹的丝杆及驱动所述丝杆转动的第一电机，所述基台开设有与所述丝杆相匹配的螺纹孔，所述丝杆穿设于所述螺纹孔。

进一步地，所述进料口处和所述出料口处分别设置有密封装置，所述密封装置包括弹性按压于所述待镀材料一面的第一滚筒和弹性按压于所述待镀材料另一面的第二滚筒，所述第一滚筒或所述第二滚筒连接有第二电机。

进一步地，所述壳体内于所述进料口处和所述出料口处分别相对设有上支撑块和下支撑块，所述上支撑块和下支撑块分别设有部分收容所述第一滚筒和第二滚筒的弧形收容槽，各所述弧形收容槽表面分别与所述第一滚筒和第二滚筒的主体部相互接触。

进一步地，各所述上支撑块和下支撑块开设有循环冷却槽道，各所述循环冷却槽道包括进水管道和出水管道，各所述进水管道连接有进水三通管，所述进水三通管具有第一进水端、第二进水端和第三进水端，所述第一进水端和所述第二进水端分别与各相对的所述进水管道连接，所述第三进水端连接于外部进水机构；各所述出水管道连接有出水三通管，所述出水三通管具有第一出水端、第二出水端和第三出水端，所述第一出水端和所述第二出水端分别与各相对的所述出水管道连接，所述第三出水端连接于外部出水机构。

进一步的，所述采用激光加热的PVD设备还设置有主控器，用于监控镀膜厚度的膜厚监控装置、用于测温的温测装置、用于测压的测压装置和用于监控腔体内部环境的视频监控装置，所述膜厚监控装置、所述温测装置、所述测压装置和所述视频监控装置均分别电连接于所述主控器。

本发明提供的一种采用激光加热的PVD设备，密封的腔体内设置有用于加热的激光聚焦组件，激光聚焦组件将激光源聚焦，对靶材进行加热，蒸发舟内的靶材受热激发，对待镀材料进行镀膜，采用激光对靶材进行加热，其加热速度快、镀膜效率高、提高了生产效率，并且，形成的镀膜均匀平整，达到了使用的要求。

附图说明

图1是本发明实施例提供的采用激光加热的PVD设备的整体立体示意图；

图2是图1中A-A剖面的剖面图；