[发明专利]采用激光加热的PVD设备

权利要求书

1.一种采用激光加热的PVD设备，包括壳体，所述壳体具有密封的腔体，所述腔体内设有用于容放靶材的蒸发舟，所述壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供所述待镀材料离开的出料口，其特征在于，所述腔体内还设置有用于加热所述靶材的激光聚焦组件，所述蒸发舟设置于所述激光聚焦组件的上端。

2.如权利要求1所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述腔体内还设置有用于固定安装所述激光聚焦组件的基台，所述激光聚焦组件连接于所述基台，所述激光聚焦组件包括用于聚焦激光源的聚焦头和用于连接传输激光光纤的光纤连接管，所述聚焦头与所述光纤连接管相连接，所述基台的两侧设置有安装孔和固定槽，所述聚焦头插设于所述安装孔内，所述光纤连接管设置于所述固定槽内。

3.如权利要求2所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述安装孔和固定槽所述设置有多个且均匀排列于所述基台相对的两侧面，所述聚焦头和所述光纤连接管相应地设置有多个，各所述聚焦头分别设置于所述安装孔内，各所述光纤连接管分别设置于所述固定槽内。

4.如权利要求3所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述蒸发舟具有用于容纳所述靶材的容纳腔，所述蒸发舟上设置有用于喷射所述靶材受热后形成的镀膜粒子的喷口，所述喷口呈细缝状，所述喷口两侧的上方设置有用于改变所述镀膜粒子运动轨迹的磁极。

5.如权利要求3所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述基台设置有所述聚焦头的一端与所述蒸发舟的底部相叠设连接。

6.如权利要求3所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述基台连接有用于驱动所述基台相对所述待镀材料移动的驱动装置，所述驱动装置包括具有螺纹的丝杆及驱动所述丝杆转动的第一电机，所述基台开设有与所述丝杆相匹配的螺纹孔，所述丝杆穿设于所述螺纹孔。

7.如权利要求1所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述进料口处和所述出料口处分别设置有密封装置，所述密封装置包括弹性按压于所述待镀材料一面的第一滚筒和弹性按压于所述待镀材料另一面的第二滚筒，所述第一滚筒或所述第二滚筒连接有第二电机。

8.如权利要求7所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述壳体内于所述进料口处和所述出料口处分别相对设有上支撑块和下支撑块，所述上支撑块和下支撑块分别设有部分收容所述第一滚筒和第二滚筒的弧形收容槽，各所述弧形收容槽表面分别与所述第一滚筒和第二滚筒的主体部相互接触。

9.如权利要求8所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述上支撑块和下支撑块开设有循环冷却槽道，所述循环冷却槽道包括进水管道和出水管道，所述进水管道连接有进水三通管，所述进水三通管具有第一进水端、第二进水端和第三进水端，所述第一进水端和所述第二进水端分别与各相对的所述进水管道连接，所述第三进水端连接于外部进水机构；所述出水管道连接有出水三通管，所述出水三通管具有第一出水端、第二出水端和第三出水端，所述第一出水端和所述第二出水端分别与各相对的所述出水管道连接，所述第三出水端连接于外部出水机构。

10.如权利要求1至9中任意一项所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述采用激光加热的PVD设备还设置有主控器，用于监控镀膜厚度的膜厚监控装置、用于测温的温测装置、用于测压的测压装置和用于监控所述腔体内部环境的视频监控装置，所述膜厚监控装置、所述温测装置、所述测压装置和所述视频监控装置均分别电连接于所述主控器。