[发明专利]激光处理装置及其控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种激光处理装置及其控制方法，尤其涉及一种激光处理装置及其控制方法，该激光处理装置能够仅对衬底的待进行激光处理的部分选择性地进行激光处理，并且能够防止气体存留在衬底与平台之间直到衬底放置在平台上。

背景技术

在制造半导体器件、平板显示器（FPD）器件、或太阳能电池器件等时，当在高温下沉积薄膜时，热化学反应可能造成反应炉污染，或者可能产生不想要的化合物。

因而，使用激光激发的等离子体化学气相沉积在低温下沉积薄膜。

同时，由于随着衬底规格的增大，很难确保薄膜沉积和退火时的均匀性，因此已经提出了包括激光退火处理的各种措施。

反应室设置有进气口/出气口，通过所述进气口/出气口而供应反应气体或从反应室排放反应气体，并且在反应室上端设置有石英玻璃窗口。激光装置放置于该石英玻璃窗口上方，并且从该激光装置发射的激光束经过该石英玻璃窗口并到达反应室中的衬底。

呈帘幕状照射的激光束垂直于衬底或相对于衬底稍微倾斜。

衬底沿相对于激光束的一个方向水平移动，从而使激光束照射至衬底的整个表面。

名称为“用于调节能量束的长度和强度的激光处理装置”的韩国专利申请号10-2010-0138509A（公开于2010年12月31日）公开了本发明的现有技术。

然而，由于通用激光处理装置将激光束照射至整个衬底以执行激光处理，激光束甚至会照射衬底的不需要进行处理的部分，从而很难减少激光处理的时间。

另外，通用激光处理装置没有设置有能够将气体从位于衬底与平台之间的空间移除直到衬底放置在平台上的分离器件。因此，当大衬底放置在平台上时，气体可能会存留在衬底与平台之间。

当衬底放置在平台上时，存留在衬底与平台之间的气体会使气泡生成并使衬底不平坦。而且，在激光处理过程中，存留在衬底与平台之间的气体能够使激光束偏离聚焦范围（focal range），并使在衬底总体区域上的热处理不均匀。

因此，需要一种克服现有技术中的这类问题的激光处理装置。

发明内容

本发明涉及一种激光处理装置及其控制方法，尤其涉及一种激光处理装置及其控制方法，该激光处理装置能够仅对衬底的待进行激光处理的部分选择性地进行激光处理，并且能够防止气体存留在衬底与平台之间直到衬底放置在平台上。

根据本发明的一个方案，一种激光处理装置包括：平台，其被放置在反应室内，且在所述平台上放置衬底；真空单元，被提供给(be provided to)平台以将氧气从位于衬底与平台之间的空间排放到反应室的外部；以及控制器，当衬底放置在平台上时，其将操作信号发送到真空单元，使得依序从平台的中心部向其外围执行氧气排放操作。

该真空单元可以包括：多个真空孔，被提供给平台；以及真空泵，被连接到真空孔并用以将氧气排放到反应室外部。

该平台可以包括：中心部，被设置为穿过平台的中心将平台分成两个对称部分；第一侧部，邻近中心部；第二侧部，邻近第一侧部的外侧；第三侧部，邻近第二侧部的外侧；以及多个交叉部，被设置为与第二侧部交叉。

该真空孔可以包括：第一真空孔，形成在中心部中；第二真空孔，形成在第一侧部中；第三真空孔，形成在第二侧部中；第四真空孔，形成在第三侧部中；以及第五真空孔，形成在交叉部中。

根据本发明的另一个方案，一种激光处理装置的控制方法包括：当衬底放置在平台上时，从放置在反应室内的该平台的中心部排放氧气；当氧气从平台的中心部完全排放时，从邻近平台的中心部的第一侧部排放氧气；当氧气从第一侧部完全排放时，从邻近第一侧部的外侧的第二侧部排放氧气；当氧气从第二侧部完全排放时，从邻近第二侧部的外侧的第三侧部排放氧气；以及当氧气从第三侧部完全排放时，从与第二侧部交叉的交叉部排放氧气。

在根据本发明的激光处理装置及其控制方法中，由于激光束能够仅照射衬底的待进行激光处理的部分，照射激光束的操作时间得以缩短，因而能够减少激光处理的时间和成本。

另外，在根据本发明的激光处理装置及其控制方法中，在位于衬底与平台之间的空间，从平台的中心向其外围按顺序生成真空，以防止气体存留在衬底与平台之间，从而在大衬底的激光处理过程中有效防止在衬底与平台之间生成气泡。

结果是，根据本发明的激光处理装置可以在大衬底的总体区域提供均匀的平坦度，允许激光束照射到位于聚焦范围内的衬底，并能够对大衬底的总体区域进行均匀的热处理。

附图说明