[发明专利]一种曝光底片防焊手动对位图形设计方法有效
| 申请号： | 201210558885.8 | 申请日： | 2012-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN103052272A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 曾祥福;黄克强;李飞宏;张晃初 | 申请（专利权）人： | 胜宏科技(惠州)股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/28 | 分类号： | H05K3/28;G03F7/20;G03F1/42 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 任海燕;陈文福 |
| 地址： | 516211 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 底片 手动 对位 图形 设计 方法 | ||
1.一种曝光底片防焊手动对位图形设计方法，包括：
在外层底片的成型区内一边或多边设置参照图形块组，所述参照图形组包括两个或两个以上参照图形块;
在网版底片的成型区内设置与参照图形块组对应的透光带；
在防焊底片的成型区内一边或多边设置对位图形块组，所述对位图形块组包括两个或两个以上对位图形块，且对位图形块与参照图形块一一对应且形状相同。
2.根据权利要求1所述的曝光底片防焊手动对位图形设计方法,其特征在于：在外层底片成型区内的两边分别设置有参照图形块组。
3.根据权利要求2所述的曝光底片防焊手动对位图形设计方法，其特征在于：所述外层底片成型区内的两边为外层底片成型区内左下角的两夹边。
4.根据权利要求1或2或3所述的曝光底片防焊手动对位图形设计方法，其特征在于：所述参照图形块组中的参照图形块数量为2~6个、各参照图形块的间距为1~3mm。
5.根据权利要求4所述的曝光底片防焊手动对位图形设计方法，其特征在于：所述参照图形块为圆形参照图形块，且直径为2-6mm。
6.根据权利要求5所述的曝光底片防焊手动对位图形设计方法，其特征在于：所述参照图形块组中的参照图形块等距线性排列。
7.根据权利要求3所述的曝光底片防焊手动对位图形设计方法，其特征在于：所述参照图形块组中最靠近外层底片成型区内左下角的参照图形块的中心与所述外层底片成型区内左下角的距离为6~20mm。
8.根据权利要求4所述的曝光底片防焊手动对位图形设计方法，其特征在于：所述透光带的面积与网版底片的成型区面积相同。
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