[发明专利]用于制造光耦合装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 201210554082.5 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103885132A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 黄新舜 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;G02F1/035
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 用于 制造 耦合 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造光耦合装置的制造方法,其包括:

步骤S01:提供一个平板光波导,该平板光波导包括一个顶面及一个与该顶面垂直连接的侧面,该侧面用于与一个激光光源对接且该激光光源发出的激光束垂直射入该侧面;

步骤S02:利用高折射率材料在该顶面镀上一层介质光栅薄膜,该介质光栅薄膜包括多条垂直于该侧面的条状部分;及

步骤S03:在该顶面形成一对条状电极,该对电极分别位于该介质光栅薄膜两侧,并平行于该多个条状部分。

2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,该步骤S01包括以下子步骤:

步骤S011:提供一个基底,该基底包括该顶面及该侧面;及

步骤S012:在该顶面上向该基底内部扩散形成该平板光波导。

3.如权利要求2所述的制造方法,其特征在于,该基底采用铌酸锂晶体,该平板光波导通过向该顶面镀上金属钛后高温将金属钛扩散入该基底而形成。

4.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,该步骤S02包括如下子步骤:

步骤S021:在该顶面上镀上一层高折射率材料膜;及

步骤S022:采用黄光蚀刻工艺蚀刻该高折射率膜以形成该介质光栅薄膜。

5.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,该介质光栅薄膜是一个啁啾光栅,该多个条状部分垂直于该侧面设置,且高度相同;该多个条状部分的数目为奇数,并关于一个对称轴对称分布,且沿该对称轴到远离该对称轴的方向,该条状部分的宽度越来越小,而相邻两个该条状部分的间隙也越来越小。

6.如权利要求5所述的制造方法,其特征在于,以该介质光栅的宽度方向为                                               轴,该对称轴与轴的相交点为原点,沿该对称轴到远离该对称轴的方向为轴正向,该介质部分的第个边界满足如下条件:,其中,,为正整数,及为常数且与该衍射型光波导透镜的焦距相关。

7.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,该对电极通过镀膜技术形成。

8.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,该对电极的长度大于或者等于该介质光栅薄膜的长度。

9.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,该对电极的高度大于或者等于该介质光栅薄膜的高度。

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