[发明专利]一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构及其施工方法

权利要求书

1.一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构，其特征在于：在侧壁主体(1)的施工缝(3)处同步设置一道次侧壁(2)，在侧壁主体(1)和次侧壁(2)的连接处形成空隙(4)，在空隙(4)中填充满彭润土(6)后用混凝土封闭空隙(4)的上部开口(8)，由次侧壁(3)、空隙(4)及空隙(4)中的彭润土(6)构成自愈式施工缝结构。

2.根据权利要求1所述的一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构，其特征在于：次侧壁(3)呈半圆柱状，在次侧壁(2)的圆心处设有圆筒状腔体(5)，在圆筒状腔体(5)中填充满彭润土(6)后用混凝土封闭空隙(4)的上部开口(8)，由次侧壁(3)、空隙(4)、圆筒状腔体(5)及空隙(4)、圆筒状腔体(5)中的彭润土(6)构成自愈式施工缝结构。

3.根据权利要求2所述的一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构，其特征在于：所述空隙(4)位于次侧壁(2)与侧壁主体(1)的连接处，位于圆筒状腔体(5)的一侧或对称两侧。

4.根据权利要求1至3任一权利要求所述的一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构，其特征在于：所述空隙(4)和圆筒状腔体(5)可以为纵向结构，在空隙(4)中设有埋式止水带。

5.根据权利要求1至3任一权利要求所述的一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构，其特征在于所述施工缝(3)和空隙(4)可以为“L”形。

6.根据权利要求1至3任一权利要求所述的一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构，其特征在于所述施工缝(3)可以为后浇带刚性接缝。

7.如权利要求1所述的一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构的施工方法，其特征在于：

1)浇注测壁主体(1)，标注好测壁主体(1)的施工缝(3)；

2)在侧壁主体(1)的施工缝(3)位置同步浇捣一道次侧壁(2)，在侧壁主体(1)与次侧壁(2)的连接处放置外涂脱模剂的柱状内模，浇注混凝土；待混凝土达到预定强度后，从上部抽出外涂脱模剂的柱状内模，形成空腔(4)；

3)从上部向空腔(4)内倒入膨润土(6)后封闭上部开口(8)，由次侧壁(3)、空隙(4)及空隙(4)中的彭润土(6)构成自愈式施工缝结构。

8.如权利要求7所述的一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构的施工方法，其特征在于：

步骤2)中，在侧壁主体(1)的施工缝(3)位置同步浇捣的一道次侧壁(2)呈半圆柱状，在次侧壁(2)的圆心处设有圆筒状腔体，在该圆筒状腔体中放置外涂脱模剂的柱状内模(7)，浇注混凝土；待混凝土达到预定强度后，从上部抽出外涂脱模剂的柱状内模(7)，形成圆筒状腔体(5)。