[发明专利]一种电容触摸屏及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及触摸感应装置领域，具体涉及一种电容触摸屏及其制备方法。

背景技术

投射式电容触摸屏，灵敏度高，使用寿命长，支持多点触控，具有良好的屏幕显示特性，因而得到广泛应用。在现有技术中，投射式电容触摸屏的结构主要如图1所示，包括：透明基板10、氧化铟锡（Indium Tin Oxide，简称ITO）材料的透明电极层30、电极引线（图中未示出）以及保护层50。其中透明感应电极层包括多个透明电极31，多个透明电极31之间的间隙称为透明电极膜刻蚀区32。当手指触摸时，手指和ITO表面形成一个耦合电容，引起触摸点电容量的变化，从而计算出手指所在位置。一般地，透明电极层30一般直接沉积在透明基板10上，电极引线分布在透明电极31周围并与透明电极31的电极端相连；覆盖于透明电极31和引线之上的保护层起到绝缘保护作用。该这种结构下，透明电极31的图形设计以及材料特性决定了触摸屏的透过率、显示效果和可靠性。目前具有该结构的电容触摸屏产品存在几大缺点：

第一，由于透明导电层往往具有较高的折射率和较低的透过率，导致透明导电膜区域和非透明导电膜存在较大的色差，严重影响显示效果；第二，触摸屏要求有高的透光率，该结构下产品往往透过率低；第三，作为透明基板的玻璃表面含有碱离子，与氧成键，该键在空气和水中容易断裂，导致沉积在其上的薄膜附着力和可靠性较差；为了克服这些问题，已出现了一些改进的产品，但是仍存在一些问题：部分产品增加增透膜提高了透过率，但上述色差问题仍未得到彻底解决；而另外一些产品，为了减轻色差问题却牺牲了透过率。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一或至少提供一种有用的商业选择。为此，本发明的一个目的在于提出一种透过率高、色差小的触摸电容屏及其制备方法。

根据本发明实施例的电容触摸屏，包括：透明基板；形成在所述透明基板之上的双层减反射膜层；形成在所述双层减反射膜层之上的透明电极层；以及形成在所述透明电极层之上的高折射率遮蔽层，其中，所述双层减反射膜层进一步包括：高折射率材料层；以及形成在所述高折射率材料层之上的二氧化硅层，其中，所述透明电极层进一步包括：多个透明电极；多个所述透明电极之间的透明电极膜刻蚀区；以及透明电极引线。

在本发明的一个实施例中，所述透明电极层的材料为掺锡氧化铟、掺铝氧化锌、掺镓氧化锌或掺氟氧化锡。

在本发明的一个实施例中，所述高折射率遮蔽层与所述透明电极层的折射率相近似，所述高折射率遮蔽层为二氧化钛、三氧化二铝、五氧华二铌、硫化锌、三氧化二钇或二氧化锆。

在本发明的一个实施例中，所述高折射率材料层与所述透明电极层的折射率相近似，所述高折射率材料层为二氧化钛、三氧化二铝、五氧华二铌、硫化锌、三氧化二钇或二氧化锆。

根据本发明实施例的电容触摸屏的制备方法，包括：A.提供透明基板；B.在所述透明基板之上形成双层减反射膜层；C.在所述双层减反射膜层之上形成透明电极层；以及D.在所述透明电极层之上形成高折射率遮蔽层，其中，所述步骤B进一步包括：B1.形成高折射率材料层；以及B2.在所述高折射率材料层之上形成二氧化硅层，其中，所述步骤C进一步包括：C1.在所述双层减反射膜层之上沉积透明导电材料；C2.刻蚀以形成多个透明电极和多个所述透明电极之间的透明电极膜刻蚀区；以及C3.在所述多个透明电极附近形成透明电极引线。

在本发明的一个实施例中，所述透明电极层的材料为掺锡氧化铟、掺铝氧化锌、掺镓氧化锌或掺氟氧化锡。

在本发明的一个实施例中，所述高折射率遮蔽层与所述透明电极层的折射率相近似，所述高折射率遮蔽层为二氧化钛、三氧化二铝、五氧华二铌、硫化锌、三氧化二钇或二氧化锆。

在本发明的一个实施例中，所述高折射率材料层与所述透明电极层的折射率相近似，所述高折射率材料层为二氧化钛、三氧化二铝、五氧华二铌、硫化锌、三氧化二钇或二氧化锆。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是现有技术的电容触摸屏的结构示意图

图2是本发明实施例的电容触摸屏的结构示意图

图3是透明电极、金属引线的制作流程图

图4是现有技术电容触摸屏与本发明电容触摸屏的透过率曲线对比图

具体实施方式