[发明专利]一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器有效
申请号: | 201210546457.3 | 申请日: | 2012-12-14 |
公开(公告)号: | CN103033991A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 王娟;胡鑫;赵亚洲;郭红光 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/1333;H01L21/77 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗建民;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 形成 方法 以及 液晶显示器 | ||
技术领域
本发明属于液晶显示器领域,具体涉及一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器。
背景技术
液晶显示器(LCD)中的主要构成部件是液晶面板,液晶面板包括彩膜基板和阵列基板,所述彩膜基板和阵列基板之间形成填充有液晶的液晶盒。所述液晶面板分为用于图像显示的显示区域以及其他部分的非显示区域。所述显示区域包括成矩阵排列的多个像素区域,对应显示区域的彩膜基板上,每个像素区域均包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三个彩色膜层;对应显示区域的阵列基板上,每个像素区域均设置有薄膜晶体管(TFT)。在液晶显示器工作的过程中,根据驱动信号的不同,在液晶面板的不同部位产生不同的电场,液晶盒中对应区域的液晶分子的几何形态与方向在电场作用下发生变化,从而改变光的传输路径与相位,实现图像显示。
在液晶面板中,为了获得均匀的液晶分子排列以及方向,实现对液晶的控制,需要对液晶进行取向。在现有技术中,对液晶取向通常采用的方式是在彩膜基板和阵列基板中分别设置取向层,并经过摩擦工艺使取向层具有取向能力。在液晶面板的量产中,采用摩擦辊轮(Roller)完成摩擦工艺,所述摩擦辊轮外表面包覆有特殊的摩擦用的绒布(Cloth Pile,称为绒布)。如图2所示,摩擦辊轮在取向层上沿设定的方向滚动,绒布对取向层施加摩擦力,在取向层表面形成方向一致的取向槽,以使液晶分子沿着取向槽按照一定的方向排列,实现液晶取向。在摩擦工艺中,摩擦辊轮的绒布对取向层施加垂直方向的压力,因此被摩擦面的平整度(或者平坦度)对取向槽的深度影响很大,如果被摩擦面的表面某处存在高度差,则绒布纤维将产生不一致的形变,进而导致在被摩擦面上摩擦生成的取向槽深浅不一致。
液晶显示器的生产工艺复杂且步骤繁多,尤其是阵列基板中,如图1所示,根据设计需要,每一个TFT均包括像素电极(ITO)、源电极(S)、漏电极(D)、钝化层(PVX)、栅电极(G)和栅极绝缘层(GI)等多层,同时还包括栅极扫描线、数据扫描线等电连接线,使得阵列基板上形成了处于不同高度的工艺段差。
在量产过程中,为了提高生产效率,通常会根据不同尺寸要求在基板上形成多个单元阵列区域(即有效显示区域),不同单元阵列区域之间预留有一定间隙区域(即非显示区域)。为保证产品良率,通常在空隙区域设置检测盘(Test Pad),检测盘中设置有与TFT相似的结构;同时,检测盘中根据需要设置相应的检测点或检测端口,例如设置过孔用于加载驱动信号,以便在关键工艺后对TFT阵列进行相应的检测。但是,检测盘中设置过孔时,过孔与阵列基板中各工艺层会形成较大的段差。这样,当该基板采用摩擦工艺进行摩擦取向时,绒布受基板表面较大段差的影响会产生不同的形变,这种形变导致绒布在基板上的摩擦强度不均匀,进而造成在取向层中取向槽的深浅不一致,而取向槽深浅的不一致容易造成沿摩擦方向产生竖线Mura的不良,产品良率降低。图8所示即为采用蒸汽检查机作为检测装置观察到的因摩擦工艺造成的竖线Mura不良。
而对于摩擦辊轮而言,因为绒布纤维形变具有一定的累加性(或叫记忆性),由段差造成的纤维形变若得不到及时缓解,会使绒布的利用率和使用寿命大幅降低;同时也将导致被摩擦面产生不良的程度逐渐加剧。尤其是对于小尺寸高对比度的广视角液晶显示器,即采用高透过率高级超维场转换技术(Higher ADvanced Super Dimension Switch,简称HADS)的阵列基板,因其在每一间隙区域都设置有检测盘以及过孔,因此使得绒布频繁且持续的多次经过过孔段差,导致阵列基板因摩擦强度不一致而产生不良,也降低了摩擦辊轮中绒布的利用率和使用寿命。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足,提供一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器,所述基板中缓冲单元能有效消除因摩擦工艺造成的竖线Mura不良,提高产品良率。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是该基板,包括基底以及排列在所述基底上的多个单元功能块,所述基底上各单元功能块之间的区域为空隙区域,每一所述单元功能块中具有多个功能器件,所述功能器件相对所述基底具有工艺段差,所述空隙区域设置有缓冲单元,所述缓冲单元的高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度。
其中,每个所述功能器件相对所述基底具有一个以上不同高度的工艺段差,所述缓冲单元的高度等于其中一个所述工艺段差的高度,所述缓冲单元设置在所述单元功能块的一侧或两侧。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210546457.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。