[发明专利]一种基板、基板的形成方法以及液晶显示器

权利要求书

1.一种基板，包括基底以及排列在所述基底上的多个单元功能块，所述基底上各单元功能块之间的区域为空隙区域，每一所述单元功能块中具有多个功能器件，所述功能器件相对所述基底具有工艺段差，其特征在于，所述空隙区域设置有缓冲单元，所述缓冲单元的高度大于零且小于等于所述工艺段差的高度。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，每个所述功能器件相对所述基底具有一个以上不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于其中一个所述工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述单元功能块的一侧或两侧。

3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述缓冲单元为长方体形，在所述长方体与所述基底平行的截面中，与摩擦辊轮运动方向平行的边的尺寸大于等于所述摩擦辊轮滚动一圈的时间内基板移动的距离。

4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述单元功能块为阵列功能块，所述空隙区域还设置有检测盘，所述检测盘包括栅极层、栅绝缘层、钝化层以及像素电极层，所述栅极层、栅绝缘层、钝化层、像素电极层相对所述基底分别具有不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于栅极层相对于基底的工艺段差的高度、或等于栅绝缘层相对于基底的工艺段差的高度、或等于钝化层相对于基底的工艺段差的高度、或等于像素电极相对于基底的工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述检测盘的一侧或两侧。

5.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述单元功能块为彩膜功能块，所述功能器件包括彩色膜层，所述彩色膜层包括彩色树脂以及黑矩阵，所述彩色膜层中的彩色树脂以及黑矩阵相对所述基底具有不同高度的工艺段差，所述缓冲单元的高度等于彩色树脂相对于基底的工艺段差的高度、或等于黑矩阵相对于基底的工艺段差的高度，所述缓冲单元设置在所述彩膜功能块的一侧或两侧。

6.根据权利要求4或5所述的基板，其特征在于，所述基板中还包括设于基底上的取向层，所述缓冲单元采用与形成所述取向层相同的材料制成。

7.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，所述缓冲单元采用聚酰亚胺材料制成。

8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，所述缓冲单元通过喷墨方式形成在所述基底上，或者，所述缓冲单元通过凸版转印方式形成在所述基底上。

9.一种基板的形成方法，其特征在于，包括在基板上的多个单元功能块之间的空隙区域中，设置高度大于零且小于等于如权利要求1-8任一一项所述工艺段差的高度的缓冲单元的步骤。

10.一种液晶显示器，包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述阵列基板采用分割权利要求4所述的基板形成的单元阵列基板，或/和所述彩膜基板采用分割权利要求6所述的基板形成的单元彩膜基板。