[发明专利]一种化学机械抛光液

权利要求书

1.一种化学机械抛光液，其特征在于，包括化学添加剂、研磨粒子、氧化剂、络合剂和腐蚀抑制剂。

2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所选化学添加剂选自聚羧酸类化合物、有机膦酸类化合物或聚乙烯吡咯烷酮（PVP）类化合物中一种或多种。

3.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于，所述聚羧酸类化合物为聚羧酸及其盐类化合物。

4.如权利要求3所述的抛光液，其特征在于，所述聚羧酸类化合物选自聚环氧琥珀酸纳（PESA），聚丙烯酸（PAA），马来酸-丙烯酸共聚物（MA-AA），聚丙烯酸钠（PAAS），水解聚马来酸酐（HPMA）中的一种或多种。

5.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于，所述有机膦酸类化合物为有机膦酸及其盐类化合物。

6.如权利要求5所述的抛光液，其特征在于，所述有机膦酸类化合物选自氨基三甲叉膦酸（ATMP）、羟基乙叉二膦酸（HEDP）、乙二胺四甲叉膦酸（EDTMPA）、二乙烯三胺五甲叉膦酸（DTPMPA）、乙二胺四甲叉膦酸钠（EDTMPS）2-羟基膦酰基乙酸（HPAA）中的一种或多种。

7.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮（PVP）类化合物为相对分子量为1000-10000000范围内的一种或多种聚合物。

8.如权利要求7所述的抛光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮（PVP）类化合物的K值为15、17、25、30和/或90。

9.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的研磨粒子为氧化铈研磨颗粒。

10.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述研磨粒子的平均粒径为80-300纳米。

11.如权利要求10所述的抛光液，其特征在于，所述研磨粒子的平均粒径为120-280纳米。

12.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述研磨粒子的浓度为0.25-2.5wt%。

13.如权利要求12所述的抛光液，其特征在于，所述研磨粒子的浓度为0.5-1.5wt%。

14.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的氧化剂选自过氧化氢、碘酸钾、过硫酸铵、过硫酸钾或硝酸铵中的一种或多种。

15.如权利要求14所述的抛光液，其特征在于，所述的氧化剂选自过硫酸铵或碘酸钾。

16.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的氧化剂浓度为0.01-0.5wt%。

17.如权利要求16所述的抛光液，其特征在于，所述的氧化剂浓度为0.05-0.1wt%。

18.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂选自L-精氨酸、氨基乙酸、柠檬酸、乙二胺、醋酸中的一种或多种。

19.如权利要求18所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂选自醋酸、乙二胺和/或氨基乙酸。

20.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂的浓度为0.01-1wt%。

21.如权利要求20所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂的浓度为0.1-0.25wt%。

22.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂选自苯并三氮唑类化合物。

23.如权利要求22所述的抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂为苯并三氮唑和/或3-氨基-1、2、4-三氮唑。

24.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂的浓度为0.01-0.1wt%。

25.如权利要求24所述的抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂的浓度为0.05-0.1wt%。

26.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述化学添加剂的浓度为0.1-1.5wt%。

27.如权利要求1-26任一项所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH值范围为6.0-11.0。