[发明专利]液晶显示面板的像素结构及像素形成方法无效
申请号: | 201210545021.2 | 申请日: | 2012-12-14 |
公开(公告)号: | CN103869560A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 胡宪堂;任珂锐;赖瑞麒 | 申请(专利权)人: | 瀚宇彩晶股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1333;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 像素 结构 形成 方法 | ||
1.一种液晶显示面板的像素结构,包括:
一第一基板;
一彩色滤光层,形成于所述第一基板上,所述彩色滤光层包括:
多个滤光区块,用以过滤光线;及
多个遮光区块,用以阻隔光线;
一主间隔单元,形成于所述多个遮光区块的一遮光区块上;
一子间隔单元,形成于所述多个遮光区块的另外一遮光区块上;
一第二基板;
一薄膜晶体管,形成于所述第二基板上;
一覆膜层,形成于所述薄膜晶体管及所述第二基板的上方;及
一液晶层,位于所述第一基板和所述第二基板之间;
其特征在于,所述覆膜层邻近所述主间隔单元的上表面到所述第二基板的距离大于所述覆膜层邻近所述子间隔单元的上表面到所述第二基板的距离。
2.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述薄膜晶体管的位置是在所述主间隔单元的下方。
3.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述覆膜层具有一穿孔,形成于所述薄膜晶体管的一侧,所述穿孔的底部到所述第二基板的距离小于所述覆膜层邻近所述子间隔单元的上表面到所述第二基板的距离。
4.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,还包括一透明导电层,形成于所述覆膜层上。
5.如权利要求4所述的像素结构,其特征在于,所述透明导电层是横跨过所述薄膜晶体管。
6.如权利要求4所述的像素结构,其特征在于,还包括一扫描线及一数据线,电连接于所述薄膜晶体管,所述透明导电层是横跨过所述扫描线及/或所述资料线。
7.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,所述主间隔单元及所述子间隔单元的长度相同。
8.一种液晶显示面板的像素形成方法,其特征在于,包括:
形成一彩色滤光层,于一第一基板上,所述彩色滤光层包括多个滤光区块,用以过滤光线,及多个遮光区块,用以阻隔光线;
形成一主间隔单元及一子间隔单元于所述多个遮光区块上;
形成一薄膜晶体管于一第二基板上;
形成一覆膜层于所述薄膜晶体管及所述第二基板上,所述覆膜层邻近所述主间隔单元的上表面到所述第二基板的距离大于所述覆膜层邻近所述子间隔单元的上表面到所述第二基板的距离,且所述覆膜层具有一穿孔,形成于所述薄膜晶体管的一侧,所述穿孔的底部到所述第二基板的距离小于所述覆膜层邻近所述子间隔单元的上表面到所述第二基板的距离;及
形成一液晶层于所述第一基板和所述第二基板之间。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述薄膜晶体管的是形成于所述主间隔单元的下方。
10.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述液晶层是以滴注方式形成于所述第一基板和所述第二基板之间。
11.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述覆膜层是以半色调光罩制程所形成。
12.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述主间隔单元及所述子间隔单元之长度相同。
13.如权利要求8所述的方法,其特征在于,还包括形成一透明导电层于所述覆膜层上。
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