[发明专利]一种显示面板及其制作方法有效
申请号: | 201210537805.0 | 申请日: | 2012-12-12 |
公开(公告)号: | CN103022050A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 张洪林;董霆 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括玻璃基板、信号线,以及信号线下方的栅绝缘层,该显示面板还包括:
位于该栅绝缘层和玻璃基板之间的栅极金属层。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该显示面板还包括:
用于将所述栅极金属层与栅极高压相连的连接线。
3.一种液晶显示器,其特征在于,包括权利要求1或2所述的显示面板。
4.一种用于生产权利要求1或2中的显示面板的掩模板,其特征在于,该掩模板在预设的信号线区域不透光。
5.一种显示面板的制作方法,其特征在于,该方法包括:
使用物理气相沉积的方法,在玻璃基板上形成栅极金属层;
为该栅极金属层设置用于连接栅极高压的连接线;
在栅极金属层上涂附光刻胶,并使用在预设的信号线区域不透光的掩模板对该光刻胶进行曝光;
显影并刻蚀该栅极金属层;
在栅极金属层上分别形成栅绝缘层、半导体层并掺杂半导体、源漏金属层以及绝缘层。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,在形成源漏金属层后,该方法还包括:
光刻并刻蚀栅极金属上方的源漏金属层,形成源极和漏极。
7.如权利要求5所述的方法,其特征在于,在形成绝缘层后,该方法还包括:
在预设的铟锡金属氧化物ITO像素电极区域镀上ITO像素电极,除去漏极上方的部分绝缘层,将漏极与ITO像素电极连接。
8.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述栅极高压,为该显示面板的薄膜场效应晶体管TFT的开启电压Vgh。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的