[发明专利]用于增加原子层沉积前驱体数量的方法

权利要求书

1.用于增加原子层沉积前驱体数量的方法，其特征在于，包括：

将衬底基片进行表面处理；

将衬底放入原子层沉积设备的反应腔室中；

将载气通入不同反应物瓶内，通过载气带出的反应物在溶剂瓶内进行反应，而生成前驱体；

将前驱体输运和载气吹扫的方式输送到原子层沉积反应腔中进行薄膜的沉积；所述载气是氮气N₂、氦气He或者氩气Ar；所述载气用来运输前驱体的源为一路，所述载气吹扫的源为多路；所述载气是并行，同时与各反应物接触的；所述载气流量为1sccm–250sccm。

2.根据权利要求1所述的用于增加原子层沉积前驱体数量的方法，其特征在于，所述反应物瓶是两个或者两个以上。

3.根据权利要求2所述的用于增加原子层沉积前驱体数量的方法，其特征在于，所述反应物瓶包括装有第一反应物的第一反应物瓶、装有第二反应物的第二反应物瓶和装有溶剂的第三反应物瓶；所述第一反应物、所述第二反应物在所述溶剂中反应，用于生成前驱体的物质。

4.根据权利要求1所述的用于增加原子层沉积前驱体数量的方法，其特征在于，所述载气带出反应物以及输运难挥发前驱体时的管壁温度低于原子层沉积的反应腔室温度，所述载气带出反应物以及输运难挥发前驱体时的管壁温度为1℃–90℃。

5.根据权利要求1所述的用于增加原子层沉积前驱体数量的方法，其特征在于，所述前驱体是两种或者两种以上，是现场化学反应生成的，或易挥发和分解的前驱体。