[发明专利]阵列基板及其制备方法、液晶面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201210520128.1 申请日: 2012-12-06
公开(公告)号: CN103268049A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 黄忠守;吴昊 申请(专利权)人: 厦门天马微电子有限公司
主分类号: G02F1/1368 分类号: G02F1/1368;H01L29/43;H01L29/786;H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 361101 福建省厦门市火*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 液晶面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括显示区域和设置于所述显示区域周边的驱动电路,其特征在于,所述显示区域和所述驱动电路均包含至少一个薄膜晶体管TFT,其中,

所述显示区域包含的TFT的栅电极为导电材料,所述驱动电路包含的TFT的栅电极为透明导电材料。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述透明导电材料为氧化铟锡ITO或者氧化铟锌IZO。

3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括缓冲层、多晶硅层、栅绝缘层、电极绝缘层和绝缘层,所述驱动电路包含的TFT的栅电极位于所述电极绝缘层和绝缘层之间,且位于所述电极绝缘层的上方,所述绝缘层的下方。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括缓冲层、多晶硅层、栅绝缘层、电极绝缘层和绝缘层,所述栅电极位于所述绝缘层的上方。

5.一种阵列基板制备方法,其特征在于,包括:

在玻璃基板上依次制备缓冲层、多晶硅层、栅绝缘层、电极绝缘层、源漏电极层、栅电极层和绝缘层,其中,所述栅电极层采用物理气相沉积法制备;或者

在玻璃基板上依次制备缓冲层、多晶硅层、栅绝缘层、电极绝缘层、源漏电极层、绝缘层和栅电极层,其中,所述栅电极层采用物理气相沉积法制备。

6.一种液晶面板,包括阵列基板、彩膜基板以及位于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶,所述阵列基板包括显示区域和设置于所述显示区域周边的驱动电路,其特征在于,所述显示区域和所述驱动电路均包含至少一个薄膜晶体管TFT,其中,

所述显示区域包含的TFT的栅电极为导电材料,所述驱动电路包含的TFT的栅电极为透明导电材料。

7.如权利要求6所述的液晶面板,其特征在于,所述透明导电材料为氧化铟锡ITO或者氧化铟锌IZO。

8.如权利要求6所述的液晶面板,其特征在于,所述阵列还包括缓冲层、多晶硅层、栅绝缘层、电极绝缘层和绝缘层,所述驱动电路包含的TFT的栅电极位于所述电极绝缘层和绝缘层之间,且位于所述电极绝缘层的上方,所述绝缘层的下方。

9.如权利要求6所述的液晶面板,其特征在于,所述阵列基板还包括缓冲层、多晶硅层、栅绝缘层、电极绝缘层和绝缘层,所述驱动电路包含的TFT栅电极位于所述绝缘层的上方。

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求6~9任一权利要求所述的液晶面板。

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