[发明专利]无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片

说明书

技术领域

本发明涉及一种抗静电性能优异且具有高雾度的扩散片的制造方法，更具体地，涉及一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片，所述方法能够大量制造呈现相同的光学特性且抗静电性能优异的高雾度扩散片。

背景技术

液晶显示装置作为一种利用液晶显示图像的平板显示装置，与其他显示装置相比，更薄、更轻，且具有更低的驱动电压及更低的功耗的优点，因此，广泛应用于整个产业。

由于液晶显示装置中用于显示图像的显示面板为自身不能发光的非发光元件，因此需要能够给所述显示面板提供光的额外的背光组件。

所述背光组件包括：产生光的光源；从所述光源接收入射的光并将其向上方出射的导光板；以及将通过所述导光板出射的光扩散至整个所述面板的扩散片。

所述扩散片起到将从所述导光板出射并朝向正面的光进行分散从而提高背光组件的亮度均匀性的作用。

通常，扩散片通过在透明材质的基材上固定含有二氧化硅、碳酸钙、氧化钛及玻璃珠等光扩散材料的光扩散层的方式制造(韩国授权专利第1996-0015775号)。但是，在量产过程中，随着时间的推移，所述光扩散层的颗粒会凝聚或其粘度会变化，导致制造呈现相同的光学特性的扩散片方面面临技术限制。为解决这些问题，目前正积极尝试着扩散片的制造方法。

例如，韩国公开专利第2009-0014623号中公开了以提高扩散性能为目的而在光扩散层内通过热分解形成1～20μm大小的气泡的方法。但是，这种方法对于实现高雾度具有局限性。

另外，韩国公开专利第2007-0003974号中公开了利用转移(transfer)方法在光扩散片表面以数微米深度形成多角锥状的凹凸表面以抑制莫尔干涉条纹。但是，利用该方法无法大量制造具有相同光学特性的扩散片，也无法实现高雾度。

另外，韩国公开专利第2010-0131923号中公开了利用形状转移工艺制造形成有凸状结构的扩散片的方法，而韩国授权专利第0882992号中公开了通过使光扩散剂包含在树脂内而形成的扩散片。但是，通过这些方法制造的扩散片呈现较低的雾度值。

另外，韩国授权专利第1000440号中公开了包括在基膜的一面包括多个第一凸部和多个第一凹部的扩散层的扩散片。所述扩散片的特征在于，所述扩散层包括多个扩散颗粒，所述凸部及凹部由包含在扩散层的多个扩散颗粒形成。但是，这种多个脱离现象呈现降低扩散片的扩散率并且贴装后会降低背光单元的光效率的可靠性的问题。

发明内容

为解决现有的问题，本发明的目的在于提供一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片，所述方法能够大量制造呈现相同的光学特性且脱模性及抗静电性能优异的高雾度扩散片。

为实现上述目的，本发明提供一种无颗粒扩散片的制造方法，包括：

第一步骤，在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕(embossed)图案的主模具；

第二步骤，将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中，以形成纳米尺寸的气泡；

第三步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕(intaglio)图案的转印模具(transfer mold)，其中，所述凹雕图案与所述浮雕图案相对应；以及

第四步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下制造包括具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片，其中，所述浮雕图案与所述凹雕图案相对应。

根据本发明，通过在与颗粒形状相对应的凹雕图案的一次半球形状上，利用离子型表面活性剂在表面实现作为纳米尺寸的二次形状的突出形状，而且，利用所形成的凹雕图案实现具有纳米尺寸的凹陷形状的半球形状的浮雕图案，能够制造不仅能够实现高雾度的扩散图案，还能降低表面电阻以赋予抗静电性及脱模性的无颗粒扩散片。

另外，根据本发明，由于不使用扩散剂，能够大量制造具有相同光学特性的无颗粒扩散片。

附图说明

图1a、图1b及图1c为按工序示出本发明的无颗粒扩散片制造方法的示意图；

图2a及图2b为根据本发明实施例1的包括凹雕图案的无颗粒扩散片的扫描电子显微镜(SEM)照片；

图3a及图3b为根据本发明实施例1的包括浮雕图案的无颗粒扩散片的SEM照片；以及

图4为根据本发明比较例的包括浮雕图案的无颗粒扩散片的SEM照片。

＜附图标记的说明＞

10：基板

20：热固性树脂

30：颗粒

40：光固化树脂