[发明专利]一种紫外增强污染材料测量装置无效
申请号: | 201210491054.3 | 申请日: | 2012-11-27 |
公开(公告)号: | CN102944494A | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | 杨青;杨生胜;王鹢;薛玉雄;郭兴;庄建宏;田海;石红 | 申请(专利权)人: | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 |
主分类号: | G01N5/02 | 分类号: | G01N5/02 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 杨志兵;付雷杰 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外 增强 污染 材料 测量 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种紫外增强污染材料测量装置,属于空间应用技术领域。
背景技术
在航天器运行过程中,其上材料会分解出小分子形成污染云围绕在航天器周围,并可能会凝结于航天器的表面。部分敏感表面(比如光学镜头、热敏表面等等)会受到这种小分子污染的影响。为了避免这种污染对航天器的影响,研究人员使用地面试验对材料进行监测筛选。但是,空间中还存在有各种环境效应,比如紫外、原子氧等等,而现行的地面试验是仅仅将污染效应与温度这个单一效应联系,并没有结合多种空间效应。因此迫切需要开发稳定、可靠的适合于测试紫外增强污染的方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种紫外增强污染材料测量装置,所述装置采用真空紫外与真空污染设备相结合,提供了结合空间紫外辐射效应的模拟材料污染效应的装置,能够很好地模拟空间环境效应。
本发明的目的由以下技术方案实现:
一种紫外增强污染材料测量装置,所述装置包括:液氮瓶、液氮冷凝层、真空紫外灯、样品台、石英晶体微量天平(QCM)、高真空插板阀、分子泵、机械泵和真空室;
其中,液氮冷凝层包覆在真空室外,液氮瓶与液氮冷凝层相连,机械泵通过阀门与分子泵相连,分子泵与真空室相连,机械泵还通过阀门与真空室直接相连;石英晶体微量天平置于真空室内,真空紫外灯安装于真空室侧壁上,真空紫外灯与石英晶体微量天平处于同一水平高度,保证真空紫外灯能够直射石英晶体微量天平,石英晶体微量天平与真空紫外灯的距离为300mm;样品台安装于真空室侧壁上,伸入真空室的一端开有通孔,且样品台含有加热装置;
所述真空紫外灯为提供波长为10~200nm的紫外光源。
一种采用所述紫外增强污染材料测量装置的测量方法,步骤如下:
(1)将样品放入样品台中,打开机械泵,打开高真空插板阀,对真空室抽真空;
(2)待真空室真空度达到1×10-1Pa后,打开分子泵,继续对真空室抽真空;
(3)待真空室真空度达到3×10-3Pa后,打开样品台的加热装置,打开真空紫外灯;
(4)待样品台的温度达到50℃~150℃后,使用液氮瓶对冷凝层通入液氮,对真空室进行冷凝;石英晶体微量天平开始工作,使石英晶体微量天平保持在25℃,开始冷凝后6~48h之间读取石英晶体微量天平的示数,即所述天平晶体的频率差;
(5)读数结束后,关闭样品台加热装置,关闭真空紫外灯;
(6)关闭高真空插板阀,关闭分子泵,关闭机械泵;
通过以上步骤即得到紫外辐照下材料出气污染实际增强的效应;
所述样品为非金属材料;
步骤(4)所述样品台的加热温度优选为125℃;读数时间优选为开始冷凝24h后。
原理如下:
材料样品在加热作用下逸出小分子,即为污染小分子,污染小分子通过样品台的通孔进入真空室后,在石英晶体微量天平上凝结,同时通过真空紫外灯对石英晶体微量天平进行辐照,即可得到紫外辐照下材料出气污染实际增强的效应。
有益效果
(1)本发明所述装置采用真空紫外与真空污染设备相结合,提供结合空间紫外辐射效应的模拟材料污染效应的装置。
(2)本发明所述装置中的真空紫外灯提供的光波段为10~200nm,并未包含产生热量的可见光以及红外波段,更好地模拟了空间环境下的实际光源。
(3)本发明所述装置在凝结部分设计温控QCM,进一步控制了凝结温度,试验过程中将使QCM保持在25℃(航天器常见温度),用于凝结污染分子,更好地模拟航天器表面凝结污染分子,解决了紫外辐照后因为温度问题而无法获得可凝挥发物的问题。
(4)本发明所述装置中的液氮冷凝层可以将多余污染分子粘附,避免了部分多余小分子污染物遭到真空室内壁的反射后造成的误差。
附图说明
图1本发明所述装置的结构示意图;
其中,1—液氮瓶、2—液氮冷凝层、3—真空紫外灯、4—样品台、5—石英晶体微量天平、6—高真空插板阀、7—分子泵、8—机械泵、9—真空室。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例来详述本发明,但不限于此。
实施例1
如图1所示,一种紫外增强污染材料测量装置,所述装置包括:液氮瓶1、液氮冷凝层2、真空紫外灯3、样品台4、石英晶体微量天平5(QCM)、高真空插板阀6、分子泵7、机械泵8和真空室9;
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