[发明专利]有机绝缘层组合物及使用其的薄膜晶体管基板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及应用于薄膜晶体管基板的绝缘层，尤其涉及一种有机绝缘层组合物。

背景技术

薄膜晶体管被广泛用作诸如液晶显示器(LCD)或有机发光显示器(OLED)的显示装置的开关元件。

薄膜晶体管包括栅电极、有源层、源电极和漏电极。然后，在薄膜晶体管上形成钝化层。

下文，将参照附图描述现有技术的薄膜晶体管基板。

图1是现有技术的薄膜晶体管基板的剖面图。如图1所示，在基板10上形成有栅电极20，在栅电极20上形成有栅绝缘层30。

然后，在栅绝缘层30上形成有半导体层40，在半导体层40上形成有源电极52和漏电极54，其中源电极52和漏电极54彼此相对设置。

在源电极52和漏电极54上形成有钝化层60，并在钝化层60上形成有像素电极70。在该情形中，在钝化层60中形成有预定接触孔(H)，由此像素电极70通过接触孔(H)与漏电极54电连接。

如上所述，钝化层60形成在薄膜晶体管上，由此保护薄膜晶体管。通常，用于保护薄膜晶体管的钝化层60可由有机绝缘层形成。

钝化层60被构图，以具有预定接触孔(H)。用于构图钝化层60的工艺包括使用预定掩模的曝光工艺和使用预定显影液的显影工艺。就是说，通过使用预定掩模进行曝光工艺，由此在钝化层60的暴露区域中发生化学反应。在这些条件下，进行显影工艺，由此由于暴露区域与非暴露区域之间不同的材料特性，通过显影液移除暴露区域，从而形成接触孔(H)。

应当能够构图在钝化层60中的接触孔(H)。因而，用于钝化层60的有机绝缘层包括能对曝光工艺(对诸如UV的光)进行化学反应的光敏剂。

在现有技术的情形中，有机绝缘层中包括的光敏剂一般由光活性化合物(PAC)形成。

然而，使用光活性化合物(PAC)作为光敏剂，具有下面的缺陷。

首先，为了形成细微图案，就是说，为了形成精确图案的接触孔(H)，当使用光活性化合物(PAC)作为光敏剂时，必须额外在曝光工艺与显影工艺之间进行烘焙工艺用于施加预定热量。

就是说，因为光活性化合物(PAC)对曝光工艺的反应性较低，所以在曝光工艺之后额外进行烘焙工艺，由此将整个区域清晰地划分为将通过随后的显影工艺被移除的区域和不被移除的区域。

此外，光活性化合物(PAC)具有黄色。因而，如果使用光活性化合物(PAC)，可能会降低显示装置的光透射率，导致色坐标偏移的问题。

同时，当用紫外线(UV)照射光活性化合物(PAC)时，其黄色变为白色，从而能够提高光透射率。然而，为此，不得不额外进行整个表面曝光工艺。此外，即使通过整个表面曝光工艺将黄色变为白色，也很难获得高水平的光透射率。

如上所述，如果使用光活性化合物(PAC)作为光敏剂，显示装置的光透射率降低，且由于额外的工艺，如烘焙工艺和整个表面曝光工艺，整个制造工艺变得复杂。

发明内容

本发明涉及一种有机绝缘层组合物及使用其的薄膜晶体管基板和显示装置，其基本上克服了由于现有技术的限制和缺点而导致的一个或多个问题。

本发明的一个方面提供一种有机绝缘层组合物、使用上述有机绝缘层组合物的薄膜晶体管基板以及包括上述薄膜晶体管基板的显示装置，所述有机绝缘层组合物包括能通过简单的工艺形成钝化层的图案并能提高光透射率的光敏剂。

在下面的描述中将列出本发明的其它优点和特征，这些优点和特征的一部分从下面的描述对于本领域普通技术人员来说将是显而易见的，或者可通过本发明的实施而知晓。通过说明书、权利要求书以及附图中特别指出的结构可实现和获得本发明的这些目的和其他优点。

为了实现这些和其他优点并根据本发明的目的，如在此具体和概括描述的，提供了一种有机绝缘层组合物，包括：光敏剂、粘合剂、添加剂和溶剂，其中所述光敏剂包括光致产酸剂(PAG)。

在本发明的另一个方面中，提供了一种薄膜晶体管基板，包括：基板；在所述基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅电极、栅绝缘层、半导体层以及源电极和漏电极；和用于保护薄膜晶体管的钝化层，其中通过使用包含光敏剂、粘合剂、添加剂和溶剂的有机绝缘层组合物形成所述钝化层，其中所述光敏剂包括光致产酸剂(PAG)，所述光致产酸剂(PAG)是由下面的化学式1表示的化合物，

[化学式1]

其中，R1选自由酯基团、醚基团、硫醚基团、胺基团和碳酸酯基团所构成的组中之一，其中每个基团的碳原子数不超过20，R2是碳原子数不超过12的烃基。