[发明专利]有机绝缘层组合物及使用其的薄膜晶体管基板和显示装置

权利要求书

1.一种有机绝缘层组合物，包括光敏剂、粘合剂、添加剂和溶剂，其中所述光敏剂包括光致产酸剂。

2.根据权利要求1所述的绝缘层组合物，其中所述光致产酸剂由化学式1表示的化合物形成，

[化学式1]

其中，R1选自由酯基团、醚基团、硫醚基团、胺基团和碳酸酯基团所构成的组中之一，其中每种基团的碳原子数不超过20，R2是碳原子数不超过12的烃基。

3.根据权利要求2所述的绝缘层组合物，其中R1是具有芳烃结构的单价烃基、或者具有碳原子数不小于5的脂环烃结构的单价烃基，R2是n-丙基或n-辛基。

4.根据权利要求2所述的绝缘层组合物，其中所述光敏剂由2-((4-甲基苯基)磺酰基)氧基)-1H-苯并(脱)(异喹啉)-1，3(2H)-二酮、甲苯-4-磺酸6-甲氧基-1，3-二氧-1H，3H-苯并(脱)异喹啉-2-基酯或N，N-二甲基-2-{[(2-甲基苯基)磺酰基]氧基}-1，3-二氧-2，3-二羟基-1H-苯并(脱)(异喹啉)-5-磺胺形成。

5.根据权利要求1所述的绝缘层组合物，其中所述粘合剂包括丙烯基聚合物。

6.根据权利要求1所述的绝缘层组合物，其中所述添加剂包括选自固化剂、增塑剂、粘合促进剂和表面活性剂的至少一种。

7.根据权利要求1所述的绝缘层组合物，其中

光敏剂在整个所述有机绝缘层组合物中为0.1到5重量％范围内；

粘合剂在整个所述有机绝缘层组合物中为5到30重量％范围内；

添加剂在整个所述有机绝缘层组合物中为0.01到5重量％范围内；以及

溶剂在整个所述有机绝缘层组合物中为60到90重量％范围内。

8.一种薄膜晶体管基板，包括：

基板；

在所述基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅电极、栅绝缘层、半导体层以及源电极和漏电极；和

用于保护薄膜晶体管的钝化层，

其中所述钝化层是通过使用包含光敏剂、粘合剂、添加剂和溶剂的有机绝缘层组合物形成，

其中所述光敏剂包括光致产酸剂，所述光致产酸剂是由化学式1表示的化合物，

[化学式1]

其中，R1选自由酯基团、醚基团、硫醚基团、胺基团和碳酸酯基团所构成组中之一，其中每种基团的碳原子数不超过20，R2是碳原子数不超过12的烃基。

9.根据权利要求8所述的薄膜晶体管基板，其中R1是具有芳烃结构的单价烃基、或者具有碳原子数不小于5的脂环烃结构的单价烃基，R2是n-丙基或n-辛基。

10.根据权利要求8所述的薄膜晶体管基板，其中所述光敏剂由2-((4-甲基苯基)磺酰基)氧基)-1H-苯并(脱)(异喹啉)-1，3(2H)-二酮、甲苯-4-磺酸6-甲氧基-1，3-二氧-1H，3H-苯并(脱)异喹啉-2-基酯、或N，N-二甲基-2-{[(2-甲基苯基)磺酰基]氧基}-1，3-二氧-2，3-二羟基-1H-苯并(脱)(异喹啉)-5-磺胺形成。

11.根据权利要求8所述的薄膜晶体管基板，其中所述粘合剂包括丙烯基聚合物。

12.根据权利要求8所述的薄膜晶体管基板，其中所述添加剂包括选自固化剂、增塑剂、粘合促进剂和表面活性剂的至少一种。

13.根据权利要求8所述的薄膜晶体管基板，其中

光敏剂在整个所述有机绝缘层组合物中为0.1到5重量％范围内；

粘合剂在整个所述有机绝缘层组合物中为5到30重量％范围内；

添加剂在整个所述有机绝缘层组合物中为0.01到5重量％范围内；以及溶剂在整个所述有机绝缘层组合物中为60到90重量％范围内。

14.一种显示装置，包括薄膜晶体管基板，其中所述薄膜晶体管基板包括：

基板；

在所述基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅电极、栅绝缘层、半导体层以及源电极和漏电极；

用于保护薄膜晶体管的钝化层，

其中所述钝化层是通过使用包含光敏剂、粘合剂、添加剂和溶剂的有机绝缘层组合物形成，

其中所述光敏剂包括光致产酸剂，所述光致产酸剂是由化学式1表示的化合物，

[化学式1]

其中，R1选自由酯基团、醚基团、硫醚基团、胺基团和碳酸酯基团所构成的组中之一，其中每种基团的碳原子数不超过20，R2是碳原子数不超过12的烃基。