[发明专利]一种用CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列的制备方法无效
| 申请号: | 201210454215.1 | 申请日: | 2012-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN102965645A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
| 发明(设计)人: | 杨修春;池丽娜;王青尧 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
| 主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 吴林松 |
| 地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 cdte zns 纳米 修饰 tio sub 阵列 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于无机纳米材料领域,涉及一种CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列的制备方法。
背景技术
能源与环境问题成为了21世纪全世界面临的重大问题,纳米结构材料由于其独特的大比表面积、颗粒尺寸效应和组装能力等,将在环境和能源领域具有广泛的应用。半导体光催化技术由于在利用太阳能和解决环境污染问题方面具有很大的潜力,因此受到国内外广泛关注。其中,由于TiO2无毒、稳定、光电性能突出等特点,引起了人们广泛的研究兴趣。而一维结构的TiO2纳米管具有更大的比表面积、更高的光催化活性和更强的吸附能力,使其在光催化剂、太阳能电池、气敏传感材料、催化剂载体和超级电容器方面有着广泛的应用,制备和研究TiO2纳米管已成为国际上的一个热点话题。
TiO2纳米管具有优良的光电性能,但由于其固有的宽禁带(约为3.2eV)特性,使其只能吸收太阳光谱中的紫外线,紫外线在太阳光谱中只占很少的一部分(~5%),极大地限制了太阳光的有效利用率。此外,光生电子与空穴对的过快复合,降低了TiO2纳米管的有效光电效率。为此采用适当的方法对其进行改性,可以拓宽其在可见光区的吸收,并有效地限制电子空穴对的复合,提高了TiO2纳米管在可见光区域的光催化和光电流性能。
在现存的多种TiO2纳米管改性的方法中,利用窄能带半导体对TiO2纳米管进行敏化是目前研究的热点。其中,碲化镉为p型半导体,能隙宽度小,可吸收太阳光中的可见光,吸收光的范围广,达到800nm左右,吸收可见光后激发的电子转移至TiO2的导带,并沿着管壁迅速转移到基体,在光催化和DSSC应用方面具有很大的潜力。Craig A.Grimes、马建均采用恒电压法在TiO2NTs表面成功沉积CdTe量子点,大大提高了光电转化效率。中科院彭练矛课题组通过先制备出2~6nm的CdTe量子点,然后通过生物双分子偶联剂将量子点链接到TiO2NTs壁上,成功制备出CdTe/TiO2NTs光电极,光电流提升35倍。另外,CdTe纳米晶极易被氧化,存在严重的光蚀现象。而ZnS的能带宽度(3.8eV)远大于CdTe,因此用ZnS量子点对CdTe量子点进行包覆,使ZnS成为CdTe与电解液界面的阻挡层,阻碍O2与其接触,可防止CdTe氧化为单质Cd和Te,抑制光蚀。
发明内容
本发明的目的在于为克服现有技术的缺陷而提供了一种工艺方法简单,操作方便,可拓宽TiO2纳米管阵列在可见光的吸收,提高光电转化效率的CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列的制备方法。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列的制备方法,包括以下步骤:
(1)将高纯钛片超声除油,去除自然氧化膜,进行二次阳极氧化并经过热处理相转变后,制备出有序锐钛矿TiO2纳米管阵列;
(2)采用连续离子层吸附与反应的方法(SILAR),在步骤(1)制得的TiO2纳米管阵列的TiO2纳米管壁上沉积CdTe纳米晶;
(3)采用连续离子层吸附与反应的方法(SILAR)在步骤(2)中已沉积CdTe纳米晶的TiO2纳米管壁上包覆ZnS纳米晶,制得CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列。
所述的步骤(1)中高纯钛片的纯度≥99.5%。
所述的步骤(1)的超声清洗为:将高纯钛片依次在丙酮、甲醇和异丙醇中超声5~10min,去除钛表面的油污。
所述的步骤(1)中去除自然氧化膜是将超声去油后的钛片放入混酸中超声5~10s除去氧化层,其中所述的混酸为HF:HNO3:去离子水的体积为1:4:5。
所述的步骤(1)的二次阳极氧化是在电解液为含有0.5wt.%NH4F和3vol.%去离子水的乙二醇溶液,氧化电压为60V的条件下,依次进行一次阳极氧化时间为1小时,二次阳极氧化时间为3小时;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210454215.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:小型塑料封口机
- 下一篇:一种纳米硅藻土改性的复合吸音材料及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





